[发明专利]烧结炉及网带无效

专利信息
申请号: 201110194052.3 申请日: 2011-07-12
公开(公告)号: CN102878803A 公开(公告)日: 2013-01-16
发明(设计)人: 王守志 申请(专利权)人: 浚鑫科技股份有限公司
主分类号: F27B9/30 分类号: F27B9/30;H01L31/18
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 逯长明
地址: 214443 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 烧结炉
【说明书】:

技术领域

发明涉及太阳能电池设备领域,更具体地说,涉及一种烧结炉及网带。

背景技术

目前太阳能电池生产过程中,一般采用银浆印刷背电极,银浆或银铝浆通过丝网印刷在硅片的背面,然后烘干;采用铝浆印刷后背电场,通过丝网印刷将铝浆印刷在硅片的背面,印刷后在背电场能提高光生载流子的收集效率,然后烘干;在链式烧结炉中进行烧结。

其中,上述链式烧结炉一般分为六个温区,前四个温区为低温区,后二个温区为高温区,低温区主要是铝浆烧成并逐步将浆料中的有机物、玻璃料等配料挥发、溶解,高温区主要是银浆的还原和烧成。烧结过程中硅片放在链式烧结炉的网带上进行烧结。目前烧结炉的网带的结构,如图1所示,该网带由若干铝网丝编织而成,置于上方的网丝基本持平,因此,硅片放置在网带上时基本全部与网带相贴合。当硅片放到网带上进行烧结时,硅片发生一定弯曲,这样导致硅片只有两侧边缘背电场与网带接触,大大降低了接触面积,同时因为网带距离硅片太近,会影响设备对硅片的正常加热,使得背电场受热不均,降低了转换效率。

另外,硅片的烧结温度在800-900℃范围内,该烧结温度已明显高于背电场上铝的熔点,同时,由于烧结炉内有气体的流动,硅片在烧结时会发生抖动,抖动过程会发生倾斜,这样又会导致硅片的背电场局部位置与网带首先接触而损伤背电场,从而形成铝沟、铝刺。

因此,如何研究出一种使得硅片受热均匀的烧结炉及网带,成为本领域技术人员亟待解决的技术问题。

发明内容

有鉴于此,本发明一方面提供一种网带,以实现在烧结过程中使得硅片受热均匀的目的,提高转换效率的目的;另一方面提供一种应用上述网带的烧结炉。

为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:

一种网带,包括网带本体,所述网带本体上设置有若干支撑体组,所述支撑体组中至少包括两个支撑体,所述支撑体具有弧度,且两端远离所述网带本体。

优选的,在上述网带中,所述支撑体中部焊接于所述网带本体上。

优选的,在上述网带中,所述支撑体的长度范围为15-30cm。

优选的,在上述网带中,所述支撑体的长度为20cm。

优选的,在上述网带中,同一所述支撑体组中的支撑体平行设置在所述网带本体上。

优选的,在上述网带中,同一所述支撑体组中的支撑体平行间距范围为2-5cm。

优选的,在上述网带中,同一所述支撑体组中的支撑体平行间距为3cm。

一种烧结炉,包括具有上述结构的网带。

从上述技术方案可以看出,本发明实施例中的网带由于在网带本体上设置有若干支撑体组,所述支撑体组中至少包括两个支撑体,所述支撑体具有弧度,且两端远离所述网带本体。硅片在烧结炉内烧结时,硅片会发生弯曲,且弧度向上,由于支撑体组中的支撑体具有一定弧度,因此保证硅片的边缘始终与网带接触,且网带与电池片始终有一定距离,这样就不会引起对电池片的加热不均匀,从而提高了转换效率。

另外,由于硅片边缘超过1mm的位置不印刷背电场,这样网带就不会与背电场直接接触,因此烧结过程中硅片的背电场就不会由于局部点损伤而形成铝沟、铝刺。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术中网带的结构示意图;

图2为本发明实施例提供的网带俯视结构示意图;

图3为本发明实施例提供的网带主视结构示意图;

图4为本发明实施例提供的硅片放置于网带上的主视结构示意图;

图5为本发明实施例提供的硅片的结构示意图;

图6为本发明实施例提供的Al-Si合金二元相图;

图7为本发明实施例提供的硅片放置于网带上原理分析图;

其中,图1至图7:

1为网带,2为网带本体,3为支撑体,4为硅片,A为接触点,B为接触点。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。

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