[发明专利]一种沟槽隔离镜面的微扭转镜及其制作方法

权利要求书

1.一种沟槽隔离镜面的微扭转镜，包括镜面，其特征在于，所述的镜面由被沟槽隔离开的导电镜面(1)和隔离镜面(2)组成；导电镜面(1)和隔离镜面(2)各通过一根支撑梁(5)，分别与加电引线锚点(7)和测试引线锚点(6)连接，使得整个镜面由支撑梁(5)支撑悬置在两个锚点中间；镜面上的沟槽被两边为二氧化硅(4)，中间为多晶硅(3)的夹心式材料填充；所述导电镜面(1)上布有活动梳齿(8)，固定在加电引线固定锚点(11)上的固定梳齿(9)与之构成驱动梳齿对；所述隔离镜面(2)上也布有活动梳齿(8)，固定在测试引线固定锚点(10)上的固定梳齿(9)与之构成检测梳齿对。

2.一种如权利要求1所述的沟槽隔离镜面的微扭转镜的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1：清洗SOI硅片后，光刻以及ICP刻蚀器件层，在器件层加工出未加工沟槽的镜面、支撑梁(5)、可动梳齿(8)、固定梳齿(9)、加电引线锚点(7)、加电引线固定锚点(11)、测试引线锚点(6)、测试引线固定锚点(10)结构；

步骤2：在硅片的器件层上涂光刻胶(12)，光刻后在其上形成光刻胶上的沟槽窗口(13)结构，光刻胶上的沟槽窗口(13)对应的是镜面上的隔离槽窗口；

步骤3：以光刻胶(12)为掩模对器件层镜面进行ICP刻蚀，刻蚀到镜面下的二氧化硅绝缘层为止，形成镜面上的沟槽窗口(14)，然后去除光刻胶(12)；

步骤4：对器件层进行氧化，使得包括镜面，沟槽的侧壁及沟槽底部湿氧化一层二氧化硅层，这其中沟槽侧壁的二氧化硅层将形成镜面沟槽侧壁隔离物二氧化硅(4)；

步骤5：给器件层所氧化的二氧化硅层上再沉积一层多晶硅层，保证多晶硅填满沟槽，以免造成镜面的不平整使得最后器件测试时对光的反射有损失；

步骤6：机械抛光镜面上沟槽外的多晶硅层，再去除除沟槽侧壁之外表面的二氧化硅层，最终形成沟槽里两边的二氧化硅(4)以及中间的多晶硅(3)；

步骤7：对整张硅片进行背面的光刻及ICP深刻蚀，形成提供微扭转镜转动空间的背腔，在氢氟酸溶液中释放结构，去除微扭转镜底下的二氧化硅牺牲层，以此形成利用沟槽隔离镜面的微扭转镜结构。