[发明专利]延长焦深的并行激光直写装置有效
| 申请号： | 201110187540.1 | 申请日： | 2011-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN102338989A | 公开（公告）日： | 2012-02-01 |
| 发明（设计）人： | 周常河;余俊杰;贾伟;麻健勇;曹武刚;王少卿 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00;B23K26/00;B23K26/06 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 张泽纯 |
| 地址： | 201800 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 延长 焦深 并行 激光 装置 | ||
1.一种延长焦深的并行激光直写装置，特征在于其构成包括：输出平面激光束(001)的激光器，沿该平面激光束(001)方向依次是1×N达曼光栅(100)、第一透镜(201)、振幅型空间滤波板(203)、第二透镜(202)、反射镜(300)、孔径光阑(400)、延长焦深相位延迟板(500)、聚焦物镜(600)、自聚焦伺服系统(700)和二维移动平台(800)，所述的振幅型空间滤波板(203)位于所述的第一透镜(201)和第二透镜(202)的共焦焦平面上，所述的反射镜(300)与所述的平面激光束(001)成45°，N为所述的达曼光栅(100)的最大的衍射级次，为2以上的正整数，所述的延长焦深位相延迟板(500)的位置是所述的达曼光栅(100)在共焦透镜组后方共轭距离处，并满足下列关系：
其中：f1，f2分别为第一透镜(201)和第二透镜(202)的焦距，d为所述的达曼光栅(100)与第一透镜(201)之间的距离，v1为第二透镜(202)到所述的反射镜(300)中点之间的距离，v2为所述的延长焦深位相延迟板(500)到所述的反射镜(300)中点之间的距离。
2.根据权利要求1所述的延长焦深的多路并行激光直写装置，其特征在于所述的延长焦深的位相延迟板(500)为中心对称的同心三区二元位相结构，位相从内到外依次0、π、0相间分布。
3.根据权利要求2所述的延长焦深的多路并行激光直写装置，其特征在于所述的延长焦深的位相延迟板(500)的三区归一化半径与聚焦物镜的数值孔径相关，对于不同的数值孔径，其数值需重新优化，对于NA＝0.9，其三区归一化半径依次为r1＝0.3377，r2＝0.9560，r3＝1。
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