[发明专利]调整台移动方案中的速度和/或路线的方法和光刻设备

权利要求书

1.一种调整在光刻设备的浸没流体供给系统下面的台的移动方案的一部分的路线和/或速度的方法，所述方法包括步骤：

将台的移动方案分解成多个分立移动；

对于多个分立移动的特定分立移动，通过确定从浸没流体供给系统泄漏的浸没流体存在的位置是否在浸没流体供给系统下面行进而确定在特定分立移动期间尺寸大于特定尺寸的气泡存在于光刻设备的图案化束将通过的浸没流体供给系统的浸没流体内的风险；和

调整(i)与比确定气泡风险所针对的分立移动更早的分立移动相对应的移动方案的一部分的路线和/或速度，和/或调整(ii)与确定气泡风险所针对的分立移动相对应的移动方案的一部分的路线和/或速度。

2.如权利要求1所述的方法，还包括步骤：对于所述特定分立移动，确定从浸没流体供给系统泄漏的浸没流体的位置，并且其中所确定的位置被用于确定所述风险。

3.如权利要求2所述的方法，其中确定位置的步骤包括：对于所述特定分立移动，确定在所述特定分立移动期间浸没流体是否将从浸没流体供给系统泄漏。

4.如权利要求2或3所述的方法，其中确定位置的步骤包括：通过使用浸没流体供给系统的泄漏行为的经验模型确定浸没流体是否将从浸没流体供给系统泄漏。

5.如权利要求3或4所述的方法，其中确定位置的步骤包括：通过确定台上的弯液面钉扎特征是否在浸没流体供给系统的边缘下面行进而确定浸没流体是否将从浸没流体供给系统泄漏。

6.如权利要求5所述的方法，其中确定位置的步骤包括：通过确定在所述特定分立移动期间浸没流体供给系统的边缘是否从位于脱离物体的位置的上方转换至位于台上的物体上的位置上方，而确定浸没流体是否将从浸没流体供给系统泄漏。

7.一种操作光刻设备的方法，所述方法包括：

根据权利要求1-6中任一项所述的方法调整的移动方案，相对于配置成将图案化辐射束穿过由浸没流体供给系统提供的浸没流体投影到台上的物体的目标部分上的投影系统来移动台。

8.一种浸没光刻设备，包括：

衬底台，配置成支撑衬底；

投影系统，配置成引导图案化的辐射束至衬底上；

浸没流体供给系统，配置成供给和限制浸没流体至限定在投影系统与衬底或衬底台之间或在投影系统与衬底和衬底台两者之间的空间；

定位系统，配置成确定衬底或衬底台或衬底和衬底台两者相对于浸没流体供给系统或投影系统或流体供给系统和投影系统两者的相对位置；和

控制器，构造并布置成根据移动方案来控制台，并配置成通过将移动方案分解成多个分立移动、通过确定浸没流体供给系统是否通过从浸没流体供给系统泄漏的浸没流体所存在的位置上方而对于多个分立移动的特定分立移动确定在所述特定分立移动期间尺寸大于特定尺寸的气泡存在于光刻设备的图案化束将通过的浸没流体供给系统的浸没流体内的风险、以及调整(i)与比确定气泡风险所针对的分立移动早的分立移动相对应的移动方案的一部分的路线和/或速度和/或调整(ii)与确定气泡风险所针对的分立移动相对应的移动方案的一部分的路线和/或速度，而调整移动方案的路线和/或速度。

9.一种调整在光刻设备的浸没流体供给系统下面的台的移动方案的一部分的路线和/或速度的方法，所述方法包括步骤：

分解步骤，用于将台的移动方案分解成多个分立移动；

风险确定步骤，用于通过确定浸没流体供给系统是否通过从浸没流体供给系统泄漏的浸没流体存在的位置上方，而对于所述多个分立移动中的特定分立移动确定在特定分立移动期间尺寸大于特定尺寸的气泡存在于光刻设备的图案化束将通过的浸没流体供给系统的浸没流体中的风险；和

调整步骤，用于(i)调整与比风险确定步骤确定气泡风险所针对的分立移动早的至少一个分立移动相对应的移动方案的一部分的路线和/或速度和/或(ii)调整与风险确定步骤确定气泡风险所针对的分立移动相对应的移动方案的一部分的路线和/或速度。

10.一种操作光刻设备的方法，所述方法包括：

根据权利要求9所述的方法调整的移动方案，相对于配置成将图案化辐射束穿过由浸没流体供给系统提供的浸没流体投影到台上的物体的目标部分上的投影系统来移动台。