[发明专利]一种细晶高纯镍靶材制造方法无效
| 申请号： | 201110186608.4 | 申请日： | 2011-07-05 |
| 公开（公告）号： | CN102864421A | 公开（公告）日： | 2013-01-09 |
| 发明（设计）人： | 范亮;何金江;王欣平 | 申请（专利权）人： | 北京有色金属研究总院;有研亿金新材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人： | 刘徐红 |
| 地址： | 100088 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 高纯 镍靶材 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种细晶高纯镍靶材的制备方法，包括以下步骤：
（1）将纯度为99.99%的电解镍板酸洗后进行电子轰击炉熔炼，得到高纯镍铸锭；
（2）将高纯镍铸锭在750℃~850℃进行热机械变形处理，采用的热机械变形方式为热轧或锻造，热轧变形量不低于80%，锻造墩拔次数不低于3次，镦粗拔长率不低于50%，空冷；
（3）将热机械变形处理之后的高纯镍进行退火，退火温度450℃~550℃，退火时间1~3小时，空冷；
（4）将（3）处理后的高纯镍进行冷轧，轧制道次变形率控制在10%~15%之间，总变形率不低于80%；
（5）将冷轧之后的高纯镍在450℃~550℃退火1~3小时，空冷，趁热压平；
（6）将（5）处理后的高纯镍坯料进行各种机械加工，得到细晶高纯镍靶材。
2.根据权利要求1所述的细晶高纯镍靶材的制备方法，其特征在于：步骤（1）中，熔炼时真空度不低于6×10-2Pa。
3.根据权利要求1所述的细晶高纯镍靶材的制备方法，其特征在于：所得的细晶高纯镍靶材的纯度≥99.995%，平均晶粒度≤30um。
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