[发明专利]一种平板显示器件用玻璃基板的再生方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种玻璃板在制备平板显示器件出现异常时的处理方法，特别涉及一种平板显示器件用玻璃基板的再生方法。

背景技术

平板显示器件，如液晶显示器件等，从外观上看由两块玻璃基板构成，通常称为前、后基板，或上、下基板，在这两块基板上分别制备有发光或控制单元。在制备这些单元过程中，因种种原因使得制备成的单元未能达到设计要求，如厚度、均匀性、线宽、线距等技术指标不符合设计要求。如不能脱掉(去除)这些不符合设计要求单元，玻璃基板将不能再使用，造成极大的浪费。目前，本领域的常用的方法是直接腐蚀脱膜法，即将欲脱膜的玻璃基板直接置入脱膜液中进行腐蚀，再经过清洗即可。这种方法看似简单，但是，实际上脱膜不干净，再生后的玻璃基板仍达不到使用要求。

发明的内容

为了克服上述现有技术的不足，本发明的目的是提供一种平板显示器件用玻璃基板的再生方法，具有使玻璃基板曝光充分、脱膜干净、工艺简单的特点。

为了实现上述目的，本发明所采用的技术方案是：一种平板显示器件用玻璃基板的再生方法，按以下步骤进行：

1、曝光：

曝光量为80-100Mj/平方厘米，曝光时，玻璃基板上方无需放置铬板；将玻璃基板放置在曝光机前的放板机中，开启放板机、曝光机、收板机，曝光机自动完成玻璃基板的曝光；

2、脱膜：

脱膜液温度为40-55℃，脱膜时间为110-130cm/分钟；

将已曝光过的玻璃基板放置在脱膜机前的放板机中，开启脱膜前放板机、脱膜机及收板机，脱膜机自动完成玻璃基板脱膜；

3、清洗：

脱膜后的玻璃基板经过清洗槽进行清洗，清洗水的温度为40-45℃，清洗时间为2-4分钟。

所述的脱膜液组分的质量比为，二醇胺28-32％，二甲基砜68-72％。

所述脱膜是玻璃基板经过脱膜槽时，脱膜药液被喷淋到玻璃基板表面的过程。

所述清洗水是被喷淋到脱膜后的玻璃基板表面的纯水。

由于本发明采用了不在玻璃基板上放置铬板的曝光措施，使再生玻璃基板得到了充分曝光，加之使用了配比合理的脱膜液使得脱膜彻底，工艺简单。

具体实施方式

下面结合发明内容对本发明的工作过程如下做进一步的说明。

实施例1：

曝光：

曝光量设定为80Mj/平方厘米，将玻璃基板放置在曝光机前的放板机中，开启曝光机自动完成欲再生玻璃基板的曝光。

脱膜：

脱膜液温度设定为40℃，速度设定为110m/分钟；

将已曝光过的玻璃基板放置在脱膜机前的放板机中，开启脱膜前放板机、脱膜机、及脱膜后收板机，完成玻璃基板脱膜；脱膜液组分与质量比为，二醇胺28，二甲基砜72％。

清洗：

清洗水的温度设定为40℃，传送带通过清洗槽的时间为2分钟，由传送带拖动脱膜后的玻璃基板经过清洗槽，喷淋头自动喷洗玻璃基板。

实施例2：

曝光：

曝光量设定为100Mj/平方厘米，将玻璃基板放置在曝光机前的放板机中，开启曝光机自动完成再生玻璃基板的曝光。

脱膜：

脱膜液温度设定为50℃，速度设定为120cm/分钟；将已曝光过的玻璃基板放置在脱膜机前的放板机中，开启脱膜自动完成玻璃基板脱膜；所述脱膜液组分与质量比为，二醇胺30％，二甲基砜70％。

清洗：

清洗水的温度设定为42℃，传送带通过清洗槽的时间为3分钟，由传送带拖动脱膜后的玻璃基板经过清洗槽，喷淋头自动喷洗玻璃基板。

实施例3：

曝光：

曝光量设定为130Mj/平方厘米，将玻璃基板放置在曝光机前的放板机中，开启曝光机后的放板机、曝光机、收板机，自动完成玻璃基板的曝光。

脱膜：

脱膜液温度设定为55℃，速度设定为130cm/分钟；将已曝光过的玻璃基板放置在脱膜机前的放板机中，开启脱膜前放板机、脱膜机、及脱膜后收板机，完成玻璃基板脱膜；脱膜液组分与质量比为，二醇胺32％，二甲基砜68％。

清洗：

清洗水的温度设定为45℃，传送带通过清洗槽的时间为4分钟，由传送带拖动脱膜后的玻璃基板经过清洗槽，喷淋头自动喷洗玻璃基板。