[发明专利]光纤耦合波导光栅传感器及其制备方法无效
| 申请号： | 201110179862.1 | 申请日： | 2011-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN102279007A | 公开（公告）日： | 2011-12-14 |
| 发明（设计）人： | 张新平;冯胜飞;庞兆广 | 申请（专利权）人： | 北京工业大学 |
| 主分类号： | G01D5/26 | 分类号： | G01D5/26;G02B6/34 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人： | 魏聿珠 |
| 地址： | 100124 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光纤 耦合 波导 光栅 传感器 及其 制备 方法 | ||
1.光纤耦合波导光栅传感器，其特征在于：在光纤的端面处镀有介质波导层，在介质波导层上制有光刻胶光栅，介质波导层与光刻胶光栅形成波导光栅结构位于光纤端面上。
2.根据权利要求1所述的光纤耦合波导光栅传感器，其特征在于：所述的介质波导层的折射率大于所述光纤的折射率，其制备材料包括ITO、ZnO、Ti2O5。
3.根据权利要求1所述的光纤耦合波导光栅传感器，其特征在于：所述的光刻胶为正胶或负胶。
4.根据权利要求1所述的光纤耦合波导光栅传感器的制备方法，其特征在于：
a在光纤的端面制备介质波导层；
b利用旋涂法或吹涂法制备光刻胶层；
c利用激光对光刻胶进行干涉光刻，实现光刻胶光栅的制备。
5.根据权利要求4所述的光纤耦合波导光栅传感器的制备方法，其特征在于：所述的介质波导层的制备方法包括磁控溅射法、激光脉冲沉积法，化学气相沉积法。
6.根据权利要求4所述的光纤耦合波导光栅传感器的制备方法，其特征在于：所述的吹涂法是指将抛光后的光纤端面浸入光刻胶中，取出后随即用气流对光纤端面附着的光刻胶层进行吹涂，然后将所制备光纤放在加热板上加热。
7.根据权利要求4所述的光纤耦合波导光栅传感器的制备方法，其特征在于：利用紫外激光对光刻胶进行干涉光刻中，所用的激光为波长小于400nm的激光。
8.根据权利要求4所述的光纤耦合波导光栅传感器制备方法，其特征在于：在用紫外激光干涉光刻法制备光刻胶光栅过程中，将光纤绕其法线旋转90度，再进行第二次曝光，即可进一步实现二维光刻胶光栅的制备。
9.根据权利要求7所述的光纤耦合波导光栅传感器的制备方法，其特征在于：所制备的一维或二维光刻胶光栅周期为200nm～2000nm。
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