[发明专利]一种直接制备绒面氧化锌透明导电薄膜的方法无效
申请号: | 201110178404.6 | 申请日: | 2011-06-29 |
公开(公告)号: | CN102242345A | 公开(公告)日: | 2011-11-16 |
发明(设计)人: | 黄茜;张晓丹;刘阳;魏长春;赵颖 | 申请(专利权)人: | 南开大学 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/08 |
代理公司: | 天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 | 代理人: | 侯力 |
地址: | 300071*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 直接 制备 氧化锌 透明 导电 薄膜 方法 | ||
1. 一种直接制备绒面氧化锌透明导电薄膜的方法,其特征在于步骤如下:
1)将清洗后的衬底置于溅射腔室中进行预热;
2)将溅射腔室抽真空,待真空度小于1×10-3 Pa时,分别向腔室中通入氩气和氢气作为溅射气体,并对腔室内气压进行调控;
3)待腔室内气体压强稳定后,采用氧化锌陶瓷靶材对衬底进行磁控溅射镀膜,直接制备具有绒面结构的氧化锌透明导电薄膜。
2.根据权利要求1所述直接制备绒面氧化锌透明导电薄膜的方法,其特征在于:所述衬底材料为玻璃或聚酰亚胺。
3.根据权利要求1所述直接制备绒面氧化锌透明导电薄膜的方法,其特征在于:所述衬底预热温度为200°C -500°C。
4.根据权利要求1所述直接制备绒面氧化锌透明导电薄膜的方法,其特征在于:所述氩气的流量为40-100 sccm,氢气的流量为4-20sccm,氢气流量占溅射气体总流量的5%-30%,溅射气压为0.5 Pa-3 Pa。
5.根据权利要求1所述直接制备绒面氧化锌透明导电薄膜的方法,其特征在于:所述氧化锌陶瓷靶材包括本征ZnO陶瓷靶材、ZnO:Al2O3陶瓷靶材、ZnO:Ga2O3陶瓷靶材、ZnO:B2O3陶瓷靶材和ZnO:In2O3陶瓷靶材。
6.根据权利要求1所述直接制备绒面氧化锌透明导电薄膜的方法,其特征在于:所述磁控溅射镀膜工艺为脉冲直流磁控溅射或射频磁控溅射。
7.根据权利要求1所述直接制备绒面氧化锌透明导电薄膜的方法,其特征在于:所述绒面氧化锌薄膜具有(002)、(101)、(102)、(110)、(103)、(201)中的一种或两种以上结晶取向并有弹坑状表面形貌,薄膜的厚度为1-3 μm,薄膜表面均方根粗糙度为30-120 nm,550nm处散射绒度为15-60%。
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