[发明专利]化学机械抛光方法无效
| 申请号： | 201110177218.0 | 申请日： | 2011-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN102229101A | 公开（公告）日： | 2011-11-02 |
| 发明（设计）人： | 路新春;王同庆;门延武;何永勇 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | B24B37/00 | 分类号： | B24B37/00 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 宋合成 |
| 地址： | 100084 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种化学机械抛光方法，其特征在于，包括：利用抛光头夹持晶圆以在抛光盘上对所述晶圆进行化学机械抛光，其中在所述化学机械抛光过程中，所述抛光头自转且相对于所述抛光盘往复运动。
2.根据权利要求1所述的化学机械抛光方法，其特征在于，所述往复运动为往复平移。
3.根据权利要求2所述的化学机械抛光方法，其特征在于，所述抛光头沿所述抛光盘的径向往复平移。
4.根据权利要求2所述的化学机械抛光方法，其特征在于，所述往复平移的行程为5mm-50mm。
5.根据权利要求4所述的化学机械抛光方法，其特征在于，所述往复平移的行程为15mm-40mm。
6.根据权利要求1所述的化学机械抛光方法，其特征在于，所述往复运动的频率为5-40次/分钟。
7.根据权利要求6所述的化学机械抛光方法，其特征在于，所述往复运动的频率为10-30次/分钟。
8.根据权利要求7所述的化学机械抛光方法，其特征在于，所述往复运动的频率为20次/分钟。
9.根据权利要求1所述的化学机械抛光方法，其特征在于，所述往复运动为钟摆式运动。
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