[发明专利]变焦镜头、成像设备和用于制造变焦镜头的方法有效

专利信息
申请号: 201110173964.2 申请日: 2011-06-23
公开(公告)号: CN102298203A 公开(公告)日: 2011-12-28
发明(设计)人: 佐藤治夫;田中一政 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G02B15/177 分类号: G02B15/177;G02B1/11
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 孙志湧;安翔
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 变焦镜头 成像 设备 用于 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种变焦镜头,按照从物体侧的次序包括:

前透镜组,具有负折射光焦度;和

后透镜组,具有正折射光焦度,

所述后透镜组按照从物体侧的次序包括:正透镜La、具有面向物体侧的凹形表面的负透镜Lb、利用负透镜与正透镜胶合构造的胶合正透镜Lc、和利用正透镜与负透镜胶合构造的胶合透镜Ld,

所述后透镜组进一步包括聚焦透镜组Gf,所述聚焦透镜组Gf具有正折射光焦度,被置于所述正透镜La的物体侧,用于通过从物体侧向图像侧移动而执行从无穷远物体到近物体的聚焦,

在所述前透镜组和所述后透镜组之间的距离得以改变,由此执行从广角端状态到远摄端状态的变焦,

以下条件表达式得以满足:

0.000<Fw/(-Fb)<1.000

这里Fw表示在聚焦于无穷远物体上时所述变焦镜头在广角端状态中的焦距,并且Fb表示在所述后透镜组中的所述负透镜Lb的焦距。

2.根据权利要求1的变焦镜头,其中以下条件表达式得以满足:

0.00<Fw/|Fd|<1.00

这里Fw表示在聚焦于无穷远物体上时所述变焦镜头在广角端状态中的焦距,并且Fd表示在所述后透镜组中的所述胶合透镜Ld的焦距。

3.根据权利要求1的变焦镜头,其中以下条件表达式得以满足:

0.005<Fw/Fc<1.000

这里Fw表示在聚焦于无穷远物体上时所述变焦镜头在广角端状态中的焦距,并且Fc表示在所述后透镜组中的所述胶合正透镜Lc的焦距。

4.根据权利要求1的变焦镜头,其中以下条件表达式得以满足:

0.005<Fw/Ff<1.000

这里Fw表示在聚焦于无穷远物体上时所述变焦镜头在广角端状态中的焦距,并且Ff表示在所述后透镜组中的所述聚焦透镜组Gf的焦距。

5.根据权利要求1的变焦镜头,其中以下条件表达式得以满足:

0.00≤(r2+r1)/(r2-r1)<30.00

这里r1表示在所述后透镜组中的所述负透镜Lb的物体侧透镜表面的曲率半径,并且r2表示在所述后透镜组中的所述负透镜Lb的图像侧透镜表面的曲率半径。

6.根据权利要求1的变焦镜头,其中在所述后透镜组中的所述胶合透镜Ld具有正折射光焦度。

7.根据权利要求1的变焦镜头,其中在所述后透镜组中的所述胶合透镜Ld具有负折射光焦度。

8.根据权利要求1的变焦镜头,其中在所述后透镜组中的所述聚焦透镜组Gf至少包括具有正或者负折射光焦度的胶合透镜。

9.根据权利要求1的变焦镜头,其中在所述前透镜组的至少一个光学表面上涂覆抗反射涂层,并且所述抗反射涂层包括至少一个通过湿法过程形成的层。

10.根据权利要求9的变焦镜头,其中所述抗反射涂层是多层膜,并且通过湿法过程形成的所述层是在构成多层涂层的层中的最外层。

11.根据权利要求9的变焦镜头,其中当通过湿法过程形成的所述层的在d线处的折射率由nd表示时,折射率nd是1.30或者更小。

12.根据权利要求9的变焦镜头,其中在其上涂覆所述抗反射涂层的光学表面是从孔径光阑看到的凹形表面。

13.根据权利要求12的变焦镜头,其中在其上涂覆所述抗反射涂层的所述凹形表面是图像侧透镜表面。

14.根据权利要求13的变焦镜头,其中所述图像侧透镜表面是最物体侧透镜。

15.根据权利要求12的变焦镜头,其中在其上涂覆所述抗反射涂层的所述凹形表面是物体侧透镜表面。

16.根据权利要求9的变焦镜头,其中在其上涂覆所述抗反射涂层的光学表面是从物体侧看到的凹形表面。

17.根据权利要求16的变焦镜头,其中所述凹形表面是从所述前透镜组的最物体侧起的图像侧第二透镜的物体侧透镜表面。

18.根据权利要求16的变焦镜头,其中所述凹形表面是从所述前透镜组的最物体侧起的图像侧第三透镜的物体侧透镜表面。

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