[发明专利]硅片处理装置及其处理方法

权利要求书

1.一种硅片处理装置，用以对硅片进行预对准及边缘曝光，其特征是，所述硅片处理装置沿光路包括：

光源；以及

光学镜头，包括滤波片单元，所述滤波片单元包括预对准用滤波片和曝光用滤波片，所述预对准用滤波片通过预对准波段的光，所述曝光用滤波片通过曝光波段的光，所述预对准用滤波片和所述曝光用滤波片之一置于工作状态。

2.根据权利要求1所述的硅片处理装置，其特征是，所述光源的光谱波段覆盖预对准波段和曝光波段。

3.根据权利要求1所述的硅片处理装置，其特征是，还包括控制单元，电性连接所述滤波片单元，用以切换所述预对准用滤波片和所述曝光用滤波片置于工作状态。

4.一种硅片处理方法，采用硅片处理装置对硅片进行处理，所述硅片处理装置包括滤波片单元，所述滤波片单元包括预对准用滤波片和曝光用滤波片，所述预对准用滤波片通过预对准波段的光，所述曝光用滤波片通过曝光波段的光，其特征是，所述硅片处理方法包括以下步骤：

开启光源；以及

切换所述预对准用滤波片位于所述光源的光路中，对所述硅片进行预对准。

5.根据权利要求4所述的硅片处理方法，还包括：

切换所述曝光用滤波片位于所述光源的光路中，对所述硅片进行边缘曝光。

6.一种硅片处理方法，采用硅片处理装置对硅片进行处理，所述硅片处理装置包括滤波片单元，所述滤波片单元包括预对准用滤波片和曝光用滤波片，所述预对准用滤波片通过预对准波段的光，所述曝光用滤波片通过曝光波段的光，其特征是，所述硅片处理方法包括以下步骤：

开启光源；以及

切换所述曝光用滤波片位于所述光源的光路中，对所述硅片进行边缘曝光。

7.根据权利要求6所述的硅片处理方法，还包括：

切换所述预对准用滤波片位于所述光源的光路中，对所述硅片进行预对准。