[发明专利]分流式气浴风道

说明书

技术领域

本发明涉及一种气浴风道，尤其涉及一种分流式气浴风道。 

背景技术

光刻机是高精密设备，内部环境及部件的温度对光刻精度的影响很大。光刻机内部热源很多，这些热源产生的热量会影响系统内各部件及空间温度的稳定，必须加以控制。气浴是光刻机温度控制的主要手段之一，通过向工件台、掩模台、硅片传输等区域及部件施加恒温气浴，达到空间及部件温度的稳定性和均匀性。气浴风道的设计就是将温度受控的气浴气体输送到需要气浴的各个区域及部件。 

现有光刻机气浴风道的设计多采用在各个支路布置节流式阀门来实现各个支路气浴流量可调的功能。图1是一种传统的支路节流式气浴风道的示意图。请参考图1。支路节流式气浴风道包括入口1、风道外壁2、支路出口3、法兰4以及节流阀5。其中节流阀5的主要作用为增大局部阻力，限制气浴气体通过，进而实现支路流量可调。图2A、图2B以及图3即为目前常用的两种节流阀。 

具体而言，图2A～图2B是一种传统的蝶阀的示意图。请参考图2A～图2B。三通管6的两个出风口7分别设置有蝶阀8，蝶阀8的一端通过法兰10联接在三通管6的出风口端，蝶阀8的另一端联接有金属管。在此，蝶阀8由两个半圆形风门10组成，每个风门10的转轴12设置有轴承11，对应每个风门10设置有调节手柄9。 

上述三通管6的结构在满足对通风管路进行分流要求的同时，可对各个支路风量进行调节，并且结构简单、工作可靠，现有光刻机的气浴风道设计中多采用这种技术。然而，在各个支路布置蝶阀的气浴风道，密闭性较差，且系统压阻很大。另外，各个支路之间的压力调节相互干扰，调节 一个支路上的蝶阀，就会改变整个系统的压阻，进而影响到整个系统的流量分配。 

图3是一种传统的流线型密闭风量调节阀的示意图。请参考图3。流线型密闭风量调节阀主要包括框架14、多个叶片15以及两组连接杆件16。叶片15安装在框架14内，两组连接杆件16分别设置于框架14的两侧，用于驱动叶片15。叶片15的横截面呈流线型，在叶片15的一边形成有齿槽，在叶片15的另一边形成有齿尖，叶片15中部沿叶片长度方向形成有贯通的方形的轴孔。 

上述流线型密闭风量调节阀容易实现叶片的灵活转动，叶片啮合处密封性好，能实现极低的漏风率，并且可根据叶片的开合控制风量大小。然而，此调节阀的原理与图2A与图2B所示的蝶阀一样，都是通过改变支路上的压阻来调节流量。采用这种流量调节方式的气浴风道，系统压阻很大，且调节一个支路上的阀门，就会改变整个系统的压阻，进而影响到其它支路的流量，导致流量调节过程繁琐，且调节精度较差。 

发明内容

本发明的目的在于提供一种分流式气浴风道，以改善现有技术的缺失。 

为解决上述技术问题，本发明提供的分流式气浴风道包括本体以及至少一个分流单元。本体具有至少一个支路出风口。分流单元与支路出风口一一对应设置，本体的高度随着分流单元依次减小。分流单元包括调节件与分流片，调节件可移动地设置于本体且连接于分流片，分流片平行于本体。 

在本发明的一实施例中，支路出风口具有支路管壁，且分流片可转动地设置于支路管壁。 

在本发明的一实施例中，分流单元还包括转轴与轴承，转轴可转动地设置于支路管壁，轴承套合于转轴。 

在本发明的一实施例中，本体还具有上壁面与下壁面，支路出风口位于下壁面。 

在本发明的一实施例中，当支路出风口与分流单元的数目为多个时，上壁面为连续平面，下壁面随着多个分流单元而逐渐向上壁面靠拢。 

在本发明的一实施例中，当支路出风口与分流单元的数目为多个时，多个支路出风口处于同一水平面，下壁面与各个分流片的连接处分别向下弯曲至所述水平面，上壁面的对应部分也分别向下弯曲，且上壁面与下壁面的弯曲角度与弯曲长度相同。 

在本发明的一实施例中，本体具有弧形槽，调节件可移动地设置于弧形槽。 

综上所述，在本发明的分流式气浴风道中，通过调节件可改变分流片的位置，以实现各个支路流量可调的目的。另外，由于在本发明中，此分流式气浴风道调节支路流量的原理为分流原理，而不是传统的节流原理，在调节下一级支路流量时，系统的压阻变化微弱，对上一级支路的压力及流量没有影响。因此，此分流式气浴风道在满足各个支路流量可调的同时，解决了支路流量调节相互干扰的问题，减少了气浴系统的压阻，节约了能耗。 

附图说明

图1是一种传统的支路节流式气浴风道的示意图； 

图2A～图2B是一种传统的蝶阀的示意图；