[发明专利]用于调整集成电路性能的设备和方法有效

专利信息
申请号: 201110166824.2 申请日: 2005-05-18
公开(公告)号: CN102361449A 公开(公告)日: 2012-02-22
发明(设计)人: D·刘易斯;V·贝茨;I·拉希姆;P·麦克尔赫尼;Y-J·W·刘;B·彼得森 申请(专利权)人: 阿尔特拉公司
主分类号: H03K19/003 分类号: H03K19/003;G06F17/50
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 赵蓉民
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 调整 集成电路 性能 设备 方法
【权利要求书】:

1.一种利用可编程逻辑器件PLD来实现电子电路的方法,所述 方法包括:

把所述电子电路映射成所述PLD内的功能资源以生成一个设计;

从表示所述生成的设计中的至少一部分中的信号传播延迟的延 迟得到体偏置值;和

把所述生成的设计中的所述至少一部分的至少一个晶体管的体 偏置电平编程为所述体偏置值。

2.根据权利要求1所述的方法,其中把所述电子电路映射成所 述PLD内的功能资源进一步包括把所述电子电路的至少一部分映射 到所述PLD内的可编程逻辑资源。

3.根据权利要求1所述的方法,其中从表示所述生成的设计中 的至少一部分的信号传播延迟的延迟得到体偏置值进一步包括:把所 述延迟和已知的时间周期进行比较。

4.根据权利要求3所述的方法,其中所述延迟是可调的。

5.根据权利要求1所述的方法,其中所述延迟由在所述PLD内 实现的逻辑电路产生。

6.一种对可编程逻辑器件PLD内实现的电路中的晶体管的泄漏 电平进行调整的方法,所述方法包括:

获得表示所述晶体管的漏电流的电流;

从所获得的电流中得到体偏置电平;

把所述晶体管的体偏置调整为所得到的体偏置电平;和

获得表示所述晶体管的漏电流的电流进一步包括测量所述电路 中的漏电流。

7.根据权利要求6所述的方法,其中从所述获得的电流中得到 体偏置电平进一步包括将所述获得的电流和至少一个泄漏参考值进 行比较以生成至少一个误差信号。

8.根据权利要求7所述的方法,其中从所述获得的电流中得到 体偏置电平进一步包括从所述至少一个误差信号中得到所述体偏置 电平。

9.根据权利要求8所述的方法,其中从所述获得的电流中得到 体偏置电平进一步包括:

对所述至少一个误差信号进行滤波以生成一个被滤波的信号;和

从所述被滤波的信号中得到所述体偏置电平。

10.根据权利要求7所述的方法,其中将所述获得的电流与至少 一个泄漏参考值进行比较进一步包括将所述获得的电流与第一和第 二泄漏参考值进行比较,其中所述第一和第二泄漏参考值限定了所述 晶体管的漏电流的范围。

11.一种配置可编程逻辑器件PLD来实现电子电路的方法,所述 方法包括:

将所述电子电路映射到所述PLD内的功能资源,以生成由所述 PLD实现的设计;

识别由所述PLD实现的所述设计中的至少一个关键电路路径; 和

对所述至少一个关键电路路径中的至少一个晶体管的体偏置电 平进行编程。

12.根据权利要求11所述的方法,其中对所述至少一个晶体管 的体偏置电平的编程进一步包括对所述PLD的配置内存进行编程。

13.根据权利要求12所述的方法,其中对所述至少一个晶体管 的体偏置电平的编程进一步包括根据所述配置内存里编程的值调整 所述至少一个晶体管的源极和体之间的电压。

14.根据权利要求11所述的方法,进一步包括使所述PLD内没 有使用的功能资源无效。

15.根据权利要求11所述的方法,进一步包括控制所述PLD内 的第一电路的功率耗散。

16.根据权利要求11所述的方法,其中对至少一个晶体管的体 偏置电平进行编程进一步包括设置所述体偏置电平,以避免所述至少 一个晶体管中的热耗散。

17.根据权利要求11所述的方法,其中对至少一个晶体管的体 偏置电平进行编程进一步包括设置所述体偏置电平,以在所述至少一 个晶体管的性能和功率消耗之间做出权衡。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于阿尔特拉公司,未经阿尔特拉公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110166824.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top