[发明专利]光掩模、利用该光掩模形成叠对标记的方法及二次图案化工艺的对位精度提高方法

权利要求书

1.一种光掩模，包括：

多个图案，所述多个图案至少其中之一包括多个环状区域及多个内部区域，所述多个内部区域被所述多个环状区域所包围，其中所述多个环状区域的透光性与所述多个内部区域的透光性不同。

2.根据权利要求1所述的光掩模，其特征在于，该环状区域的外围为矩形，且该内部区域亦为矩形。

3.根据权利要求1所述的光掩模，其特征在于，所述多个内部区域为不透光，且所述多个环状区域为可透光。

4.根据权利要求1所述的光掩模，其特征在于，该光掩模包括多个条状区域，且每一所述多个条状区域具有相同的透光性。

5.一种在基板上形成叠对标记的方法，包括以下步骤：

形成一光阻层于一基板上；

提供一光掩模，该光掩模包括多个图案，所述多个图案至少其中之一包括多个环状区域及多个内部区域，所述多个内部区域被所述多个环状区域所包围，其中所述多个环状区域的透光性与所述多个内部区域的透光性不同；

进行一曝光显影工艺，使得该光阻层具有多个标记图案，所述多个标记图案包括多个孔洞及多个柱体，所述多个柱体位于所述多个孔洞之内，且每一孔洞的侧壁与该柱体的侧壁之间具有一间隙；

形成多个侧壁子于所述多个孔洞的侧壁及所述多个柱体的侧壁，其中位于所述多个间隙内的侧壁子的底部结合在一起而形成多个厚侧壁子；

移除该光阻层，其中所述多个厚侧壁子被保留；及

蚀刻该基板以形成一叠对标记，该叠对标记对应所述多个厚侧壁子。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，该光掩模的该环状区域的外围为矩形，且该光掩模的该内部区域亦为矩形。

7.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，该光掩模的所述多个内部区域为不透光，且该光掩模的所述多个环状区域为可透光。

8.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，该光掩模包括多个条状区域，且每一所述多个条状区域具有相同的透光性。

9.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，该光阻层的标记图案包括多个沟渠。

10.一种二次图案化工艺的对位精度提高方法，包括以下步骤：

形成一第一光阻层于一基板上；

提供一光掩模，该光掩模包括多个图案，所述多个图案至少其中之一包括多个环状区域及多个内部区域，所述多个内部区域被所述多个环状区域所包围，其中所述多个环状区域的透光性与所述多个内部区域的透光性不同；

进行一曝光显影工艺，使得该第一光阻层具有多个第一标记图案，所述多个第一标记图案至少其中之一包括多个孔洞及多个柱体，所述多个柱体位于所述多个孔洞之内，且每一孔洞的侧壁与该柱体的侧壁之间具有一间隙；

形成多个侧壁子于所述多个孔洞的侧壁及所述多个柱体的侧壁，其中位于所述多个间隙内的侧壁子的底部结合在一起而形成多个厚侧壁子；

移除该第一光阻层，其中所述多个厚侧壁子被保留：

蚀刻该基板以形成一叠对标记，该叠对标记对应所述多个厚侧壁子；

形成一第二光阻层于该基板上；

进行一曝光显影工艺，使得该第二光阻层具有多个第二标记图案，其中所述多个第二标记图案位于该叠对标记上方；及

进行测量，以根据所述多个第二标记图案及该叠对标记而决定对位精度。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，该光掩模包括多个条状区域，且每一所述多个条状区域具有相同的透光性。

12.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，该第一光阻层的包括多个沟渠。

13.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，该第二光阻层的第二标记图案包括多个孔洞。

14.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，该第二光阻层的第二标记图案包括多个沟渠。