[发明专利]一种斜向ZnO纳米线阵列及其生长方法无效

专利信息
申请号: 201110163536.1 申请日: 2011-06-17
公开(公告)号: CN102226297A 公开(公告)日: 2011-10-26
发明(设计)人: 叶志镇;张宏海;吕建国;杨晓朋;黄俊;李洋 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: C30B29/16 分类号: C30B29/16;C30B23/02;B82Y40/00;B82Y30/00
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 韩介梅
地址: 310027 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 zno 纳米 阵列 及其 生长 方法
【权利要求书】:

1.一种斜向ZnO纳米线阵列,其特征在于所述的ZnO纳米线与衬底表面呈55~65°夹角,向相反的方向交叉有序排列。

2.权利要求1所述的斜向ZnO纳米线阵列的生长方法,其特征在于步骤如下:

1)在m面蓝宝石衬底上沉积一层(100)取向的ZnO薄膜;

2)以纯ZnO和纯石墨按质量比2:1混合作为源材料,称量0.5~2g源材料放入一端开口的石英管的密闭端一侧,将m面蓝宝石衬底置于石英管的开口端一侧;衬底与源材料距离为8-15cm,与石英管开口端之间的距离为1~10cm;石英管放置在水平管式炉反应室中,石英管开口端处于气流下方向,反应室真空度至少抽至20Pa,源材料加热到850~950℃,然后向反应室通入纯氮气和纯氧气,氮气流量为90~99sccm,氧气流量为1~10sccm,在1000~1500Pa压强下生长。

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