[发明专利]汽化混合装置有效
| 申请号: | 201110160920.6 | 申请日: | 2011-06-15 |
| 公开(公告)号: | CN102824864A | 公开(公告)日: | 2012-12-19 |
| 发明(设计)人: | 孙恒裕;刘建党 | 申请(专利权)人: | 中国南玻集团股份有限公司 |
| 主分类号: | B01F5/04 | 分类号: | B01F5/04;B01F3/04;B01F15/02;C03C17/00 |
| 代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 何平 |
| 地址: | 518047 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 汽化 混合 装置 | ||
【技术领域】
本发明涉及浮法玻璃生产领域,尤其是涉及一种浮法在线CVD法生产镀膜玻璃的浮法生产线的汽化混合装置。
【背景技术】
浮法玻璃在线镀膜,是在浮法玻璃生产线上实现的。根据所用的镀膜原材料的状态不同,在线镀膜技术可以分为气态镀膜技术、液态镀膜技术和固态镀膜技术。气态镀膜技术可进行低辐射镀膜和阳光控制镀膜产品的生产。在线低辐射镀膜,又称在线low-E镀膜,指的是在浮法生产线上、即移动的热的玻璃带表面沉积多层掺杂的或未掺杂的金属氧化物或金属化合物的膜层技术。其中气态的阳光控制镀膜,主要指的是以气态硅烷为主要原料的金属膜层的镀膜玻璃。
传统的镀膜设备在锡槽出口处提供了一受控气氛小室,受控气氛小室内设有汽化混合装置,已将硅烷、含氧源、乙烯组成的气体混合物以惰性气体为载体,高速沉积在浮法玻璃带表面形成屏蔽层,然后将含有锡源、锑源、氟源、磷源以及催化剂、氧化剂和稳定剂而混合制成的前质体气体混合物,用氮气作为载体,以高速进行热分解反应,在镀有屏蔽层的玻璃带上形成一定厚度的具有低辐射性能的膜层。
然而,传统的镀膜工艺过程先驱体如:锡源、锑源、氟源、磷源等的气化混合设备常采用鼓泡或压力喷雾的方式,上述方式前驱体在随载气的传输过程由于受到压力稳定性的影响,容易导致混合效果较差,各种气体的均匀度不高。
【发明内容】
基于此,有必要提供一种混合效果较好的汽化混合装置。
一种汽化混合装置,包括圆柱形的汽化室及设于该汽化室上的进液管、载气管和出气管,该载气管的管口与该进液管的管口靠近且相对,且该载气管的管口靠近该汽化室的内壁。
在优选的实施例中,该汽化室包括与从该载气管内喷出的气体相接触的接触部,该载气管的轴线平行于该汽化室的截面圆位于该接触部的切线。
在优选的实施例中,该载气管的轴线与该汽化室的轴线异面垂直。
在优选的实施例中,设该载气管的轴线与该圆柱形的汽化室的轴线之间的距离为D,该汽化室的内径为R,则:0.86R≤D<R。
在优选的实施例中,该进液管的轴线穿过该汽化室的截面圆的圆心,该载气管的轴线与该进液管的轴线所成角度为55°~65°。
在优选的实施例中,设该进液管的管口到该汽化室的截面圆的圆心的距离为L,该汽化室的内径为R,则:0.91R≤L≤R。
在优选的实施例中,该出气管的轴线与该载气管的轴线平行,该出气管的轴线与该汽化室的轴线相交且垂直。
在优选的实施例中,设该出气管的轴线和该载气管的轴线在该汽化室的轴线上的投影距离为S,则:且S≤2R;其中,Q为载气管的流量,r为载气管的内径,R为汽化室的内径。
在优选的实施例中,该汽化室包括内腔和套设于该内腔的外套,该内腔与该外套之间形成容纳蒸汽的容纳腔,该外套上设有与该容纳腔相通的蒸汽进气管和蒸汽排废管。
在优选的实施例中,还包括设于该汽化室一端的观察室。
上述汽化混合装置的载气管的管口与该进液管的管口靠近且相对,且载气管的管口靠近该汽化室的内壁,因此载气管喷出的气体能够第一时间与进液管喷入的汽化物相接触,并且使得从载气管内喷出的气体沿着汽化室的圆弧形的管壁流动,从而和进液管喷入的汽化物一起形成旋转的涡流,加速气体与汽化物之间的均匀混合。
【附图说明】
通过附图中所示的本发明的优选实施例的更具体说明,本发明的上述及其它目的、特征和优势将更加清晰。在全部附图中相同的附图标记指示相同的部分。并未刻意按实际尺寸等比例缩放绘制附图,重点在于示出本发明的主旨。
图1为一实施例的汽化混合装置的俯视图;
图2为沿图1中A-A线的剖视图;
图3为沿图1中B-B线的剖视图。
【具体实施方式】
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施,本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进,因此本发明不受下面公开的具体实施的限制。
其次,本发明利用示意图进行详细描述,在详述本发明实施例时,为便于说明,表示器件结构的剖面图会不依一般比例作局部放大,而且所述示意图只是实例,其在此不应限制本发明保护的范围。此外,在实际制作中应包含长度、宽度及深度的三维空间尺寸。
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