[发明专利]一种染料敏化太阳能电池高效复合光阳极的制备方法有效

专利信息
申请号: 201110154688.5 申请日: 2011-06-10
公开(公告)号: CN102290248A 公开(公告)日: 2011-12-21
发明(设计)人: 李京波;李庆跃;李凯;王美丽;池旭明;夏建白 申请(专利权)人: 浙江东晶电子股份有限公司
主分类号: H01G9/04 分类号: H01G9/04;H01G9/20;H01M14/00;H01L51/48
代理公司: 金华科源专利事务所有限公司 33103 代理人: 黄飞
地址: 321016 *** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 染料 太阳能电池 高效 复合 阳极 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及新能源的开发与利用研究领域,具体涉及一种染料敏化太阳能电池高效复合光阳极的制备方法。

背景技术

光阳极做为染料敏化太阳能电池(Dye-sensitized solar cell,简称DSSC)的核心部件,对电池性能的提高起着决定性的作用。若提高DSSC的光电转换效率,光阳极必须满足两个条件:一、产生大量的光生电子;二、光生电子由激发染料通过光阳极快速传输到外电路。TiO2纳米晶多孔膜和一维ZnO纳米线阵列是目前研究最广泛的两种阳电极结构。TiO2纳米晶多孔膜为光阳极提供了大的比表面积,有利于更多染料的吸附,但是其中存在大量晶界,使得电子扩散系数小,复合率高,制约了DSSC光电转换效率的进一步提高;而一维ZnO纳米线阵列虽能提供直线传输的路径,提高电子的扩散长度,减少电子复合,增加电子寿命,但其对染料的吸附量有限,使得此类电池的光电转换效率也不理想。

发明内容

本发明的目的是针对现有技术的不足,提供一种染料敏化太阳能电池高效复合光阳极的制备方法,该复合光阳极不仅提高了光敏染料吸附量和光捕获效率,保障了光生电子的产生率,而且提高了光生电子的输运能力,减少电子的复合过程,从而提高染料敏化太阳能电池的光电转化效率。

本发明提供的染料敏化太阳能电池高效复合光阳极的制备方法,其特征在于:利用磁控溅射技术首先在透明基片上沉积掺In的ZnO薄膜;然后采用水热化学反应法在掺In的ZnO薄膜上生长ZnO纳米线阵列;最后通过丝网印刷技术在ZnO纳米线阵列的表面涂布一层TiO2纳米颗粒的分散溶液,加热使分散溶液中的有机溶剂挥发,得到孔状TiO2纳米晶多孔膜/ZnO纳米线阵列复合薄膜,将TiO2纳米晶多孔膜/ZnO纳米线阵列复合薄膜在染料溶液中浸泡,取出后洗去表面残留的染料溶液,晾干,得到染料敏化TiO2纳米晶多孔膜/ZnO纳米线阵列复合薄膜光阳极。

本发明在透明基片上沉积掺In的ZnO薄膜是采用磁控溅射的方法,掺In的ZnO薄膜的厚度为100-300nm。

本发明ZnO纳米线阵列直接在掺In的ZnO薄膜上外延生长,不需要在掺In的ZnO薄膜上沉积晶种层。

本发明TiO2纳米晶多孔膜由直径约10纳米和直径约200纳米两种颗粒组成,10纳米颗粒与200纳米颗粒的体积比为90∶10-95∶5;在ZnO纳米线阵列的表面印刷TiO2浆料后,将复合薄膜在500℃烧结30分钟,温度降至80℃时取出,立即放入0.3mM/L的钌配合物N719染料无水乙醇中浸泡24小时;取出后用无水乙醇洗去表面残留的染料,吹干,得到染料敏化复合光阳极。

本发明优化了ZnO纳米线阵列的生长条件和TiO2纳米晶多孔膜的微结构,即在透明基片上直接沉积掺In的ZnO薄膜,不需要在导电薄膜上再沉积晶种层,直接在此掺In的ZnO薄膜上外延生长ZnO纳米线阵列,加快电子的传输与收集;在TiO2浆料中,除了传统的10纳米的颗粒,还引入了直径约200纳米的颗粒,大尺寸的纳米颗粒可以对入射的太阳光起到散射和漫反射的作用,提高太阳光的利用率并增加染料被激发的机会。此外,本发明将ZnO纳米线阵列和TiO2纳米晶多孔膜的优点结合起来形成复合光阳极,可以大幅度的提高电池的光电转换效率。

本发明的有益效果在于:

本发明优化了ZnO纳米线阵列的生长条件,取代在F掺杂的SnO2导电基片上沉积ZnO晶种层再生长ZnO纳米线阵列,直接在透明基片上沉积掺In的ZnO薄膜,此薄膜既可作为导电层,同时也可作为晶种层,减少了电子传输的阻碍并简化了工艺步骤。

本发明优化了TiO2纳米晶多孔膜的微结构,改变传统的由单一纳米颗粒组成的多孔膜,在多孔膜中引入大尺寸的TiO2纳米颗粒作为散射中心,提高电池的光捕获效率。

本发明将TiO2纳米晶多孔膜和ZnO纳米线阵列复合电极结构作为DSSC的光阳极,在保证电极能够充分吸附染料、具有较高的光捕获效率的同时提高了光生电子的输运能力,减少了光生电子的复合率,从而提高了染料敏化太阳能电池的光电转化效率。

附图说明

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江东晶电子股份有限公司,未经浙江东晶电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110154688.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top