[发明专利]用于多个基板的气体处理的系统和方法

权利要求书

1.一种用于至少一个基板的气体处理的系统，该系统包括：

反应室；

构造为保持在所述反应室内布置的至少一个基板的至少一个基板支撑结构，所述至少一个基板支撑结构可围绕所述至少一个基板支撑结构的旋转轴线旋转；

在所述反应室内布置在所述基板支撑结构的上方的至少一个静态气体注入器；以及

布置在所述基板支撑结构的上方的至少一个移动式气体注入器，所述至少一个移动式气体注入器可移向以及移离所述至少一个基板支撑结构，所述移动式气体注入器包括：

用于将所述至少一个移动式气体注入器移向以及移离所述至少一个基板支撑结构的驱动装置；以及

一个或更多个用于从所述至少一个移动式气体注入器排出一种或更多种过程气体的出气口。

2.根据权利要求1所述的系统，其中所述至少一个移动式气体注入器的所述一个或更多个出气口靠近所述至少一个移动式气体注入器的底部布置，并且所述一个或更多个出气口被构造为沿着以相对于所述至少一个基板支撑结构的所述旋转轴线成大于零的角度取向的至少一个方向排出所述一种或更多种过程气体。

3.根据权利要求2所述的系统，其中一个或更多个径向气流在所述至少一个基板的上方沿着相对于所述旋转轴线垂直的方向排出。

4.根据权利要求2所述的系统，其中所述至少一个移动式气体注入器还包括至少一个折流板，该折流板被构造为沿着相对于所述至少一个基板支撑结构的所述旋转轴线成大于零的角度取向的所述至少一个方向引导所述一种或更多种过程气体，所述至少一个折流板布置在所述至少一个移动式气体注入器的所述一个或更多个出气口的远离所述至少一个基板支撑结构的一侧上。

5.根据权利要求1所述的系统，其中所述至少一个移动式气体注入器还包括旋转驱动装置，该旋转驱动装置被构造为驱动所述至少一个移动式气体注入器围绕所述旋转轴线旋转。

6.根据权利要求1所述的系统，其中用于将所述至少一个移动式气体注入器移向以及移离所述至少一个基板支撑结构的所述驱动装置控制在所述至少一个移动式气体注入器的所述一个或更多个出气口与所述至少一个静态气体注入器之间的第一间隔距离。

7.根据权利要求1所述的系统，其中用于将所述至少一个移动式气体注入器移向以及移离所述至少一个基板支撑结构的所述驱动装置控制在所述至少一个移动式气体注入器的所述一个或更多个出气口与所述至少一个基板支撑结构之间的第二间隔距离。

8.根据权利要求1所述的系统，其中所述至少一个静态气体注入器包括延伸穿过所述至少一个静态气体注入器的孔，所述孔具有与所述旋转轴线重合的中心轴线。

9.根据权利要求8所述的系统，其中所述孔的尺寸和结构被设计为接收所述移动式气体注入器，所述孔的所述中心轴线与所述移动式气体注入器的所述中心轴线重合。

10.根据权利要求1所述的系统，其中所述至少一个静态气体注入器还包括：

至少一个与前室形成流体连接的气体进给管线；

布置在所述前室的底部的多孔可透气底板；以及

穿过所述多孔可透气底板与所述前室形成流体连通的多个出气口，所述多个出气口被构造为朝向所述至少一个基板排出至少一种过程气体。