[发明专利]一种强缺电子轴手性双膦配体及其合成方法

权利要求书

1.一种强缺电子轴手性双膦配体，其特征在于：它是下述化合物的结构：

其中：

Tf为三氟甲磺酰基；

R为芳基或C1-C10烷基，所述芳基为苯基或C1-C10的烷基、甲氧基、卤素中一种或多种的取代苯基，如3，5-二甲基苯基，3，5-二甲基-4-甲氧基苯基，3，5-二叔丁基苯基，3，5-二叔丁基-4-甲氧基苯基，3，5-二异丙基苯基，或3，5-二异丙基-4-甲氧基苯基。

2.一种权利要求1所述配体的合成方法，其特征在于：

具体反应过程为：将碱加入到有机溶剂中，-20-30℃下向该体系按碱与双羟基Biphep摩尔比2∶1～4∶1加入双羟基Biphep，0-40℃反应0.2-2小时后，-20-30℃下向该体系按N，N-双(三氟甲磺酰基)苯胺与双羟基Biphep摩尔比2∶1～4∶1加入N，N-双(三氟甲磺酰基)苯胺，0-40℃反应0.2-10小时后得到轴手性双膦配体。

3.如权利要求2所述的合成方法，其特征在于：

其反应式如下，

其中：

双羟基Biphep(1)为左旋体、右旋体或外消旋体；

Tf为三氟甲磺酰基；

R为芳基或C1-C10烷基，所述芳基为苯基或C1-C10的烷基、甲氧基、卤素中一种或多种的取代苯基，如3，5-二甲基苯基，3，5-二甲基-4-甲氧基苯基，3，5-二叔丁基苯基，3，5-二叔丁基-4-甲氧基苯基，3，5-二异丙基苯基，或3，5-二异丙基-4-甲氧基苯基。

4.如权利要求2或3所述的合成方法，其特征在于：所述的双羟基Biphep为左旋体、右旋体或外消旋体；在有机溶剂中添加后的终浓度为0.0005-0.05mol/L。

5.如权利要求2或3所述的合成方法，其特征在于：所述的N，N-双(三氟甲磺酰基)苯胺在有机溶剂中添加后的终浓度为0.001-0.2mol/L。

6.如权利要求2或3所述的合成方法，其特征在于：所述的有机溶剂为四氢呋喃，乙醚，1，4-二氧六环，二氯甲烷，二氯乙烷，氯仿，苯，甲苯中的一种或二种以上的混合。

7.如权利要求2或3所述的合成方法，其特征在于：所述的碱为氢化钠，氢化钾，碳酸钾，碳酸钠，叔丁醇钾，叔丁醇钠，三乙胺或吡啶；在有机溶剂中添加后的终浓度为0.001-0.2mol/L。