[发明专利]利用硅藻土制备高纯单质硅的制备方法无效

专利信息
申请号: 201110152194.3 申请日: 2011-06-08
公开(公告)号: CN102249240A 公开(公告)日: 2011-11-23
发明(设计)人: 陈雪刚;叶瑛;朱旭恒;刘舒婷;张奥博;李海晏;潘丽;邵苏东 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: C01B33/023 分类号: C01B33/023
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 张法高
地址: 310027 浙*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 利用 硅藻土 制备 高纯 单质 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及化合物的制备方法,尤其涉及一种利用硅藻土制备高纯单质硅的制备方法。

背景技术

硅藻土简介及利用现状:硅藻土是一种硅质岩石,是由硅藻死亡后经过1至2万年左右的堆积期形成的,主要分布在中国、美国、丹麦、法国、苏联、罗马尼亚等国。硅藻土化学成份主要是SiO2,含有少量Al2O3、Fe2O3、CaO、MgO、K2O、Na2O、P2O5和有机质。SiO2通常占80%以上,最高可达94%。硅藻土具有一些独特的性能,如多孔性、比表面积大、化学稳定性好等,在对原土进行粉碎、分选、煅烧、气流分级、去杂等加工工序改变其粒度分布状态及表面性质后,可适用于多种工业要求。硅藻土是一种十分重要的非金属矿产。目前广泛应用于化工生产中的触媒载体,油漆、橡胶、造纸中的填充料,食品工业中的过滤、漂白剂,隔热、隔音材料,以及石油精炼、陶瓷、玻璃、钢铁、冶金热处理等。

单质硅的应用及研究现状:高纯度的单质硅(Si)是信息产业的核心材料.地壳中含有大量的硅元素,它的含量仅次于相同种类的氧。目前制备单质硅主要采用如下方法:①SiO+2C===Si+2CO↑②Si + 2Cl===SiCl4 SiCl4+ 2H=== Si + 4HCl。两种方法都需要高温环境(1200度以上)。单质硅的应用十分广泛,通过提拉后得到高纯的单晶硅是重要的半导体材料。在单晶硅中掺入微量的第IIIA族元素,形成p型硅半导体;掺入微量的第VA族元素,形成n型和p型半导体结合在一起,将是优异的太阳能电池,在开发能源方面是一种很有前途的材料。将单质硅与陶瓷混合烧结,继承了金属和陶瓷的各自的优点,又弥补了两者的先天缺陷,是金属陶瓷、宇宙航行的重要材料。此外,采用单质硅为原料还可制备高性能的二氧化硅纤维、硅溶胶和聚氧硅材料等。

由于硅藻土呈多孔状,结构松散,其中的杂质易于去除,因此采用硅藻土为原料,通过低温合成技术所得单质硅的纯度在99%以上,有利于直接应用或进行进一步加工处理。

发明内容

本发明的目的是克服现有技术的不足,提供一种利用硅藻土制备高纯单质硅的制备方法。

利用硅藻土制备高纯单质硅的制备方法的步骤如下:

1)将硅藻土充分粉碎至100~10000目,在0.1~1.0 mol/L的稀盐酸溶液中浸泡1~24 h,以去除其中的杂质;

2)将步骤1)的产物60~150 oC烘干后与产物质量50%~100%的金属还原剂粉末充分混合,放入炉中,隔绝空气或在惰性气体的保护下500~800 oC煅烧0.5~12 h;冷却后取出,产物在0.1~1.0 mol/L的稀盐酸溶液中浸泡1~24 h,烘干后即得纯度超过99%的单质硅。

所述的硅藻土为天然产出的硅质岩石,其主要成分为无定形SiO2;所述的金属还原剂为单质镁粉或铝粉中的一种或两种;在于所述的惰性气体为高纯氮气或高纯氩气。

本发明提出的利用硅藻土制备高纯单质硅的方法,原材料来源广泛,工艺流程简单;硅藻土呈多孔状,结构松散,其中的杂质易于去除,因此所得单质硅的纯度在99%以上,有利于直接应用或进行进一步加工处理;单质硅的全球需求量极大,应用极广,因此本发明具有极强的经济价值和应用前景。

具体实施方式

利用硅藻土制备高纯单质硅的制备方法的步骤如下:

1)去除硅藻土中的Al2O3、MgO、CaO等氧化物杂质。由于硅藻土呈多孔状,结构松散,其中的氧化物杂质并未进入矿物晶格内部而易于去除。因此,将硅藻土在稀盐酸中充分浸泡即可去除其中的氧化物杂质。

2)单质硅的制备。将提纯后的硅藻土烘干后与一定量的金属还原剂粉末如金属镁粉、金属铝粉等充分混合,隔绝空气或在惰性气体的保护下500~800 oC煅烧0.5~12 h。采用金属还原剂粉末作为还原剂和加热媒介可以大幅降低单质硅的合成温度(传统方法需在1500 oC以上),不仅降低了能耗,节约了成本,还降低了对设备的需求。具体的反应方程式如下(以镁粉为例):

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江大学,未经浙江大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110152194.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top