[发明专利]基于电荷转移的触控传感器结构的制作方法

权利要求书

1.基于电荷转移的触控传感器结构的制作方法，其特征在于步骤如下：在基材的一面通过真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空热蒸发镀膜或涂布的方法制作透明导电层；在上述透明导电层表面通过真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空热蒸发镀膜、电镀或化学镀方法制作金属强化层；通过选择性腐蚀方法在一层基材的一面分别形成第一透明导电层、第一引线电极组的图形，在另外一层基材的一面形成第二透明导电层、第二引线电极组的图形；在第一引线电极组和第二引线电极组表面采用丝网印刷、圆辊移印或光刻的方法制作保护层；将完成上述工艺的工件放入选择性蚀刻液，将覆盖透明导电层的金属强化层去除；两层基材表面的制作工序相同，区别在于选择性腐蚀的图形不一样；最后将制作好电极图案的两层基材用光学透明胶粘贴起来。

2.根据权利要求1所述基于电荷转移的触控传感器结构的制作方法，其特征是所述的选择性腐蚀方法为采用涂布感光胶、贴敷感光干膜或者丝网印刷感光胶，之后干燥、曝光、显影、蚀刻、去胶的方法完成电极图案的制作。

3.根据权利要求1所述基于电荷转移的触控传感器结构的制作方法，其特征是所述的选择性腐蚀方法为采用丝网印刷或圆辊移印直接制作防蚀刻胶，之后干燥、曝光、显影、蚀刻、去胶的方法完成电极图案的制作。

4.根据权利要求1所述基于电荷转移的触控传感器结构的制作方法，其特征是将柔性基材裁切后以片状形式进行作业或使用卷对卷的模式进行作业。