[发明专利]彩色滤光片基板的制造方法、光学掩膜及光反应层

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示领域，特别涉及一种彩色滤光片基板的制造方法、光学掩膜及光反应层。

背景技术

液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)不仅具有轻、薄、小等特点，并且还具有功耗低、无辐射和制造成本相对较低的优点，因此目前在平板显示领域占主导地位。液晶显示器非常适合应用在台式计算机、掌上型计算机、个人数字助理(Personal Digital Assistant，PDA)、便携式电话、电视和多种办公自动化和视听设备中。

液晶显示面板是液晶显示器件的主要组件，目前主流的液晶显示面板是由一片薄膜晶体管(Thin-film transistor，TFT)基板与一片彩色滤光片(Color Filter，CF)基板贴合而成，且在二基板之间设置液晶层。其中，彩色滤光片基板上的红色色阻区、绿色色阻区、蓝色色阻区以及黑色遮光区(Black Matrix，BM)的设置精度容易影响到显示器件的开口率和对比度，从而影响显示器件的质量，因此彩色滤光片基板上的色阻区和黑色遮光区的制造方法非常重要。

目前的彩色滤光片基板的制造方法，多以BM/R/G/B/ITO/PS为流程制造，无法藉由一次曝光，达成分色的效果，所以必须要分次进行涂布、曝光和显影等步骤，才能形成不同色阻层；也受限于此，所以需要依据机台的精度，开立不同的掩膜(Mask)，于不同的机台进行对位曝光，因机台的精度问题，将导致设计时开口率的下降。此外，因为要分多层多次生产，于BM叠R/G/B层的区域，将会造成高度与像素Active Area区(下文简称AA区)不一致，造成液晶倾角不同，产生漏光，由此降低对比度。

因此，目前的彩色滤光片基板的制造方法存在制程繁复且易造成开口率降低及显示对比度下降的缺陷。

综上所述，如何设计出一种简化的彩色滤光片基板制造方法，提高开口率和显示对比度是业界亟须解决的课题之一。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种彩色滤光片基本的制造方法、光学掩膜以及光反应层，以简化制程，提高开口率及显示对比度。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种彩色滤光片基板的制造方法，所述制造方法包括步骤：提供基板；提供光反应层，所述光反应层覆盖在所述基板上；提供光学掩膜，所述光学掩膜设置于所述光反应层的上方；提供不同频段的光经过所述光学掩膜对所述光反应层进行照射，以分别在所述光反应层上形成色阻区以及黑色遮光区。

其中，所述光学掩膜包括多个呈矩阵设置的光学带通滤波单元，所述光学带通滤波单元包括：

多个第一透光区域，每一所述第一透光区域选择性地透过一种预定频段的光，限制其他频段的光通过；

多个第二透光区域，所述第二透光区域设置于二相邻的所述第一透光区域之间，以隔绝二相邻的所述第一透光区域，且所述第二透光区域允许多种频段的光透过。

其中，所述光学掩膜的所述多个第一透光区域分别包括第一频段透光区、第二频段透光区以及第三频段透光区；

提供第一频段光、第二频段光以及第三频段光经过所述光学掩膜对所述光反应层进行照射，其中：

所述第一频段透光区仅可透过所述第一频段光，且所述光反应层在所述第一频段光的照射下形成红绿蓝三原色中之第一色的色阻区；

所述第二频段透光区仅可透过所述第二频段光，且所述光反应层在所述第二频段光的照射下形成红绿蓝三原色中之第二色的色阻区；

所述第三频段透光区仅可透过所述第三频段光，且所述光反应层在所述第三频段光的照射下形成红绿蓝三原色中之第三色的色阻区；

所述第一频段光、所述第二频段光以及所述第三频段光同时透过所述第二透光区域时，所述光反应层形成黑色的遮光区。

其中，所述光反应层在所述第一频段光的照射下形成红色的色阻区，所述光反应层在所述第二频段光的照射下形成绿色的色阻区，所述光反应层在所述第三频段光的照射下形成蓝色的色阻区。

其中，以单一波长的激光二极管作为光源提供所需的照射光。

其中，所述光学掩膜为光学带通滤波透镜阵列。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种光学掩膜，用于制备彩色滤光片基板，所述光学掩膜包括多个呈矩阵设置的光学带通滤波单元，所述光学带通滤波单元包括：

多个第一透光区域，每一所述第一透光区域选择性地透过预定频段的光；

多个第二透光区域，所述第二透光区域允许多种频段的光透过；

其中，所述第二透光区域设置于二相邻的所述第一透光区域之间，以隔绝二相邻的所述第一透光区域。