[发明专利]用于制造导电片的方法和用于制造触控面板的方法有效
申请号: | 201110147048.1 | 申请日: | 2011-05-27 |
公开(公告)号: | CN102314960A | 公开(公告)日: | 2012-01-11 |
发明(设计)人: | 栗城匡志 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | H01B5/14 | 分类号: | H01B5/14;H01B13/00;G06F3/041 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 陈松涛;蹇炜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 制造 导电 方法 面板 | ||
1.一种用于制造导电片(10、114)的方法,所述方法包括对光敏材料(100)进行曝光和显影的步骤,所述光敏材料(100)具有透明支撑体(102)、形成于所述透明支撑体(102)的一个主表面上的第一光敏层(104a)和形成于所述透明支撑体(102)的另一个主表面上的第二光敏层(104b),其中:
所述曝光步骤包括:利用光(106a)辐照所述透明支撑体(102)上的所述第一光敏层(104a),由此对所述第一光敏层(104a)进行曝光的第一曝光处理;和利用光(106b)辐照所述透明支撑体(102)上的所述第二光敏层(104b),由此对所述第二光敏层(104b)进行曝光的第二曝光处理;并且
所述曝光步骤执行为使得入射到所述第一光敏层(104a)上的光(106a)基本上不到达所述第二光敏层(104b)且入射到所述第二光敏层(104b)上的光(106b)基本上不到达所述第一光敏层(104a)。
2.如权利要求1所述的方法,其中,
同时进行针对所述第一光敏层(104a)的所述第一曝光处理和针对所述第二光敏层(104b)的所述第二曝光处理。
3.如权利要求1所述的方法,其中,
至少通过选择所述第二光敏层(104b)的敏感度来控制所述第一光敏层(104a)上的图像形成;并且
至少通过选择所述第一光敏层(104a)的敏感度来控制所述第二光敏层(104b)上的图像形成。
4.如权利要求3所述的方法,其中,
所述第一光敏层(104a)包含在入射于其上的光(106a)的波长范围中具有光吸收敏感度的材料;并且
所述第二光敏层(104b)包含在入射于其上的光(106b)的波长范围中具有光吸收敏感度的材料。
5.如权利要求3所述的方法,其中,
所述第一光敏层(104a)包含第一光敏卤化银乳剂层(124a);
所述第二光敏层(104b)包含第二光敏卤化银乳剂层(124b);
至少通过选择所述第二光敏卤化银乳剂层(124b)的施加的银量来控制所述第一光敏层(104a)上的所述图像形成;并且
至少通过选择所述第一光敏卤化银乳剂层(124a)的施加的银量来控制所述第二光敏层(104b)上的所述图像形成。
6.如权利要求3所述的方法,其中,
所述第一光敏层(104a)包含第一光敏卤化银乳剂层(124a);
所述第二光敏层(104b)包含第二光敏卤化银乳剂层(124b);
至少通过选择包含于所述第二光敏卤化银乳剂层(124b)中的色素的光吸收来控制所述第一光敏层(104a)上的所述图像形成;并且
至少通过选择包含于所述第一光敏卤化银乳剂层(124a)中的色素的光吸收来控制所述第二光敏层(104b)上的所述图像形成。
7.如权利要求3所述的方法,其中,
所述第一光敏层(104a)包含第一光敏卤化银乳剂层(124a);
所述第二光敏层(104b)包含第二光敏卤化银乳剂层(124b);
至少通过选择所述第二光敏卤化银乳剂层(124b)的施加的银量和包含于所述第二光敏卤化银乳剂层(124b)中的色素的光吸收来控制所述第一光敏层(104a)上的所述图像形成;并且
至少通过选择所述第一光敏卤化银乳剂层(124a)的施加的银量和包含于所述第一光敏卤化银乳剂层(124a)中的色素的光吸收来控制所述第二光敏层(104b)上的所述图像形成。
8.如权利要求5所述的方法,其中,
不提供防光晕层;并且
所述第一光敏卤化银乳剂层(124a)和所述第二光敏卤化银乳剂层(124b)均具有5至30g/m2的施加的银量。
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