[发明专利]电容器及其制作方法无效
申请号: | 201110146513.X | 申请日: | 2011-06-01 |
公开(公告)号: | CN102760775A | 公开(公告)日: | 2012-10-31 |
发明(设计)人: | 苏国辉;陈逸男;刘献文 | 申请(专利权)人: | 南亚科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/92 | 分类号: | H01L29/92;H01L21/02 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 臧建明 |
地址: | 中国台湾桃园县龟山*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电容器 及其 制作方法 | ||
1.一种电容器,包括:
一第一电极,配置于一基底上;
一第一金属层,配置于该第一电极上;
一介电层,配置于该第一金属层上,其特征在于该第一金属层的材料不会与该介电层的材料产生反应;以及
一第二电极,配置于该介电层上。
2.根据权利要求1所述的电容器,其特征在于该第一金属层的材料为氮化钨。
3.根据权利要求1所述的电容器,其特征在于该第一金属层的厚度介于50··至150··之间。
4.根据权利要求1所述的电容器,其特征还包括一第二金属层,配置于该介电层与该第二电极之间,且该第二金属层的材料不会与该介电层的材料产生反应。
5.根据权利要求4所述的电容器,其特征在于该第二金属层的材料为氮化钨。
6.根据权利要求4所述的电容器,其特征在于该第二金属层的厚度介于50··至150··之间。
7.一种电容器的制作方法,包括:
于一基底上形成一第一电极;
于该第一电极上形成一第一金属层;
于该第一金属层上形成一介电层,其特征在于该第一金属层的材料不会与该介电层的材料产生反应;以及
于该介电层上形成一第二电极。
8.根据权利要求7所述的电容器的制作方法,其特征在于该第一金属层的材料为氮化钨。
9.根据权利要求7所述的电容器的制作方法,其特征在于该第一金属层的厚度介于50··至150··之间。
10.根据权利要求7所述的电容器的制作方法,其特征在于形成该介电层之后以及在形成该第二电极之前,还包括于该介电层上形成一第二金属层,且该第二金属层的材料不会与该介电层的材料产生反应。
11.根据权利要求10所述的电容器的制作方法,其特征在于该第二金属层的材料为氮化钨。
12.根据权利要求10所述的电容器的制作方法,其特征在于该第二金属层的厚度介于50··至150··之间。
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