[发明专利]一种光刻机平衡质量系统

权利要求书

1.一种光刻机平衡质量系统，其特征在于，包括：

基础框架；

大理石平台，固定于所述基础框架上；

微动台，通过第一垂向气浮垫支撑于所述大理石平台上，且沿X方向及Y方向相对于所述大理石平台运动；

平衡质量块，通过第二垂向气浮垫与所述基础框架相连，所述第二垂向气浮垫固定于所述基础框架上，且所述平衡质量块的运动情况与所述微动台的运动情况相反；以及

反力矩缓冲机构，与所述基础框架及所述平衡质量块相连，用于消除所述平衡质量块运动过程中因重心偏移产生的力矩，并且衰减所述平衡质量块向所述基础框架传递的振动。

2.如权利要求1所述的光刻机平衡质量系统，其特征在于，所述反力矩缓冲机构为垂向反力矩机构。

3.如权利要求2所述的光刻机平衡质量系统，其特征在于，所述垂向反力矩机构包括：

定子，固定于所述基础框架上；以及

动子，固定于所述平衡质量块上，所述动子与所述定子之间有一垂直距离；且所述动子与所述定子之间产生一作用力，用于消除所述平衡质量块运动过程中因重心偏移产生的力矩，并且衰减所述平衡质量块向所述基础框架传递的振动。

4.如权利要求3所述的光刻机平衡质量系统，其特征在于，所述垂直距离为1～5mm。

5.如权利要求3所述的光刻机平衡质量系统，其特征在于，所述定子包括磁铁，所述动子包括铁芯线圈，所述铁芯线圈固定于所述平衡质量块上，所述磁铁固定于所述平衡质量块下方的基础框架上，且所述磁铁的面积大于所述平衡质量块的行程范围。

6.如权利要求5所述的光刻机平衡质量系统，其特征在于，所述定子还包括磁铁固定装置，所述磁铁通过所述磁铁固定装置固定于所述基础框架上。

7.如权利要求5所述的光刻机平衡质量系统，其特征在于，所述动子还包括铁芯线圈固定装置，所述铁芯线圈通过所述铁芯线圈固定装置固定于所述平衡质量块上。

8.如权利要求5所述的光刻机平衡质量系统，其特征在于，所述磁铁的长宽比所述平衡质量块的行程大5～10mm。

9.如权利要求2至8任一项所述的光刻机平衡质量系统，其特征在于，所述垂向反力矩机构的数量为四个，四个所述垂向反力矩机构中的两个垂向反力矩机构相对于X轴对称分布，另外两个垂向反力矩机构相对于Y轴对称分布。

10.如权利要求1所述的光刻机平衡质量系统，其特征在于，所述反力矩缓冲机构为柔性铰链，所述柔性铰链的一端与所述基础框架刚性相连，另一端与所述平衡质量块刚性相连；所述柔性铰链沿X向和Y向具有第一刚度，沿Z向具有第二刚度，所述第一刚度小于所述第二刚度。

11.如权利要求10所述的光刻机平衡质量系统，其特征在于，所述第一刚度为10³～10⁴N/m。

12.如权利要求11所述的光刻机平衡质量系统，其特征在于，所述第二刚度为10⁷～10⁸N/m。

13.如权利要求12所述的光刻机平衡质量系统，其特征在于，所述柔性铰链包括框架接口及平衡质量块接口，所述框架接口与所述基础框架相连，所述平衡质量块接口与所述平衡质量块相连。

14.如权利要求13所述的光刻机平衡质量系统，其特征在于，所述框架接口与所述基础框架之间，以及所述平衡质量块接口与所述平衡质量块之间通过螺钉或粘结方式相连。

15.如权利要求10至14任一项所述的光刻机平衡质量系统，其特征在于，所述柔性铰链的数量为四个，四个所述柔性铰链安装于所述基础框架的四个角处。