[发明专利]介质供应装置有效
申请号: | 201110143979.4 | 申请日: | 2011-05-31 |
公开(公告)号: | CN102295175A | 公开(公告)日: | 2011-12-28 |
发明(设计)人: | 冈野茂治;山崎信久 | 申请(专利权)人: | 株式会社PFU |
主分类号: | B65H7/14 | 分类号: | B65H7/14 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 李向英 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 介质 供应 装置 | ||
1.一种介质供应装置,包括:
分离机构,每次从装载架中叠放的多个片形介质分离一片介质并传送所述介质;
照射单元,向所述介质的表面发射光;以及
光接收单元,接收通过使得由所述照射单元发射的光能够从所述表面反射而获取的反射光以及检测表示所述反射光的强度的反射光强度,
其中,根据由所述光接收单元检测的所述反射光强度,控制所述分离机构分离下一片介质所用的分离力。
2.根据权利要求1的介质供应装置,其中,所述光接收单元包括:
镜面反射光接收单元,接收所述反射光的镜面反射光成分并检测表明所述镜面反射光成分的强度的镜面反射光强度;以及
漫反射光接收单元,接收所述反射光的漫反射光成分并检测表明所述漫反射光成分的强度的漫反射光强度,以及
其中,根据所述镜面反射光强度和所述漫反射光强度控制所述分离力。
3.根据权利要求2的介质供应装置,其中,所述照射单元可以选择地以第一入射角发射到所述表面上的第一照射光束和以不同于所述第一入射角的第二入射角发射到所述表面上的第二照射光束,
其中所述镜面反射光接收单元包括:
第一镜面反射光接收部件,在发射所述第一照射光束时接收所述反射光的镜面反射光成分并检测镜面反射光强度;以及
第二镜面反射光接收部件,在发射所述第二照射光束时接收所述反射光的镜面反射光成分并检测镜面反射光强度;以及
其中,根据在发射所述第一照射光束时的所述漫反射光强度与由所述第一镜面反射光接收部件检测的所述镜面反射光强度的比值以及在发射所述第二照射光束时的所述漫反射光强度与由所述第二镜面反射光接收部件检测的所述镜面反射光强度的比值,来控制所述分离力。
4.根据权利要求3的介质供应装置,其中,根据第二反射光强度系数与第一反射光强度系数的比值来控制所述分离力,所述第二反射光强度系数是在发射所述第二照射光束时的所述漫反射光强度与由所述第二镜面反射光接收部件检测的所述镜面反射光强度的比值,所述第一反射光强度系数是在发射所述第一照射光束时的所述漫反射光强度与由所述第一镜面反射光接收部件检测的所述镜面反射光强度的比值。
5.根据权利要求2的介质供应装置,其中,对于关于所述介质的表面具有不同入射角的多个照射光束,包括若干照射单元和镜面反射光接收单元对,所述照射单元发射所述照射光束,所述镜面反射光接收单元在发射照射光束时接收所述反射光的所述镜面反射光成分并检测所述镜面反射光强度,以及
其中,对于每个照射光束,根据在发射所述照射光束时的所述漫反射光强度与由对应于所述照射光束的所述镜面反射光接收单元检测的所述镜面反射光强度的比值,来控制所述分离力。
6.根据权利要求1至5中任何一项的介质供应装置,其中,所述照射单元将光发射到要被所述分离机构下一次从所述多片叠放的介质分离出来的介质上。
7.根据权利要求1至5中任何一项的介质供应装置,其中,所述分离机构包括:
拾取滚轮,在与要被所述分离机构下一次从所述多片叠放的介质分离出来的传送目标介质接触的状态下旋转,以排出所述传送目标介质;以及
分离构件,与可能连同所述传送目标介质一起在重叠状态下被排出的另一片介质接触,以使所述传送目标介质与所述另一片介质分离,以及
其中,所述分离力包括所述分离构件的传送负载和使所述分离构件压向所述另一片介质所用的压力中的至少一个。
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