[发明专利]真空蒸镀装置中蒸镀材料的蒸发或升华方法及坩埚装置

权利要求书

1.一种真空蒸镀装置中蒸镀材料的蒸发或升华方法，在真空状态下，对收容在坩埚内的蒸镀材料进行加热使其蒸发或升华，对被蒸镀构件的表面进行蒸镀，其特征在于，

从设置在所述坩埚内的放射加热器，通过加热波透射容器放射以红外线为主要波长的加热波，并且使所述加热波透射容器的至少一部分由能透射红外线的材质形成；

利用所述加热波仅对蒸镀材料的表面进行加热使其蒸发或升华；

利用所述加热波对蒸发或升华后并附着在所述坩埚内表面上的蒸镀材料进行加热，使其再蒸发或再升华。

2.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置中蒸镀材料的蒸发或升华方法，其特征在于，

将所述坩埚的温度控制成低于蒸镀材料的蒸发温度或升华温度；

向所述加热波透射容器内供给冷媒流体，将所述加热波透射容器的表面温度控制成低于蒸镀材料的分解温度。

3.一种真空蒸镀用坩埚装置，在形成真空状态的真空蒸镀室内，对收容在坩埚内的蒸镀材料进行加热使其蒸发或升华，对被蒸镀构件的表面进行蒸镀，其特征在于，

在所述坩埚内设置有放射加热器，所述放射加热器包括：放射热源，放射以红外线为主要波长的加热波；以及加热波透射容器，覆盖所述放射热源，所述加热波透射容器的至少一部分由能透射红外线的材质构成，

利用来自所述放射热源的加热波对蒸镀材料的表面进行加热使其蒸发或升华，并且利用所述加热波对蒸发或升华后附着在所述坩埚内表面上的蒸镀材料进行加热，使其再蒸发或再升华。

4.根据权利要求3所述的真空蒸镀用坩埚装置，其特征在于还包括：

坩埚温度控制部，将所述坩埚的温度控制成低于蒸发温度或升华温度；以及

加热器温度控制部，向所述加热波透射容器内供给冷媒流体，将所述加热波透射容器的表面温度控制成低于蒸镀材料的分解温度。

5.根据权利要求3或4所述的真空蒸镀用坩埚装置，其特征在于，

在所述坩埚内设置有多个所述放射加热器，

在所述真空蒸镀室内设置有材料浓度检测器，所述材料浓度检测器用于检测蒸发或升华后的蒸镀材料的浓度，

所述真空蒸镀用坩埚装置还设置有膜厚控制部，分别控制各个所述放射加热器，以使所述材料浓度检测器的检测值恒定。

6.根据权利要求3或4所述的真空蒸镀用坩埚装置，其特征在于，

在所述真空蒸镀室内设置有材料浓度检测器，所述材料浓度检测器用于检测蒸发或升华后的蒸镀材料的浓度，

所述真空蒸镀用坩埚装置还设置有：

热源位置调整装置，使所述放射热源能在所述加热波透射容器内沿接近或远离蒸镀材料表面的方向移动；以及

膜厚控制部，利用所述热源位置调整装置使所述放射加热器移动，以使所述材料浓度检测器的检测值恒定。