[发明专利]一种用于改善薄膜制备工艺的匀气装置

权利要求书

1.一种用于改善薄膜制备工艺的匀气装置，其特征在于，该装置由进气管和匀气环构成，进气管和匀气环均由中空管制作而成，二者内部连通，连接处密封，且匀气环在其所在平面的表面开有气孔。

2.根据权利要求1所述的用于改善薄膜制备工艺的匀气装置，其特征在于，所述制作进气管和匀气环的中空管为不锈钢管，其外径为6毫米至15毫米，内径为4毫米至14毫米。

3.根据权利要求1所述的用于改善薄膜制备工艺的匀气装置，其特征在于，所述匀气环位于用于放置基片的反应台附近，气孔开在匀气环朝向基片的一侧。

4.根据权利要求1所述的用于改善薄膜制备工艺的匀气装置，其特征在于，所述匀气环的直径为用于放置基片的反应台直径的1.5倍至2倍。

5.根据权利要求1所述的用于改善薄膜制备工艺的匀气装置，其特征在于，所述气孔的直径为1毫米至3毫米。

6.根据权利要求1所述的用于改善薄膜制备工艺的匀气装置，其特征在于，所述气孔的轴线方向与反应台平面成45度至90度角，使反应气体集中且均匀分布于基片附近。