[发明专利]一种利用保护层形成光电元件的方法

权利要求书

1.一种利用保护层形成光电元件的方法，至少包含：提供一基板；涂布一第一电激发光材料於该基板表面上成为一第一发光层；形成一第一保护层於该第一发光层上；进行第一图样制程，形成一第一光阻层於该第一保护层上，形成一第一光罩，藉以在该第一光阻层上定义出所需图样，曝光除去部份该第一光阻层，留存一其余的该第一光阻层；除去部分之该第一保护层，系无该第一光阻层所遮蔽；蚀刻该第一发光层；去除该其余的该第一光阻层，且该第一发光层仍受该第一保护层保护。