[发明专利]一种用于氧化锌化学机械平坦化的碱性纳米抛光液及应用无效
| 申请号: | 201110119303.1 | 申请日: | 2011-05-10 |
| 公开(公告)号: | CN102220088A | 公开(公告)日: | 2011-10-19 |
| 发明(设计)人: | 张楷亮;张涛峰;王芳;刘宇航 | 申请(专利权)人: | 天津理工大学 |
| 主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02;H01L45/00 |
| 代理公司: | 天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 | 代理人: | 侯力 |
| 地址: | 300384 天津市南*** | 国省代码: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 用于 氧化锌 化学 机械 平坦 碱性 纳米 抛光 应用 | ||
1. 一种用于氧化锌化学机械平坦化的碱性纳米抛光液,其特征在于:由纳米研磨料、pH调节剂、表面活性剂、消泡剂、杀菌剂、助清洗剂和溶剂组成,各组分占抛光液总量的含量分别是:纳米研磨料为1.0wt%-30.0wt%、pH调节剂加入量是使碱性纳米抛光液pH值为8~12、表面活性剂为0.01wt%-1.0wt%、消泡剂为20-200ppm、杀菌剂为10-50ppm、助清洗剂为0.01wt%-0.1wt%、余量为溶剂。
2.根据权利要求1所述用于氧化锌化学机械平坦化的碱性纳米抛光液,其特征在于:所述纳米研磨料为氧化钛、氧化铈和二氧化硅中的一种或两种任意比例的混合物,其中氧化钛和氧化铈为其水分散体,二氧化硅为胶体溶液;纳米研磨料的平均粒径小于200nm。
3.根据权利要求1所述用于氧化锌化学机械平坦化的碱性纳米抛光液,其特征在于:所述pH调节剂为由无机碱pH调节剂和有机碱pH调节剂组成的复合碱pH调节剂,无机碱pH调节剂和有机碱pH调节剂的比例为1:1~8;无机碱pH调节剂中无机碱为KOH,有机碱pH调节剂中的有机碱为四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵和羟基胺中的一种或两种任意比例的混合物。
4.根据权利要求1所述用于氧化锌化学机械平坦化的碱性纳米抛光液,其特征在于:所述表面活性剂为硅烷聚二乙醇醚、聚二乙醇醚和十二烷基乙二醇醚中的一种或两种任意比例的混合物。
5.根据权利要求1所述用于氧化锌化学机械平坦化的碱性纳米抛光液,其特征在于:所述消泡剂为聚二甲基硅烷。
6.根据权利要求1所述用于氧化锌化学机械平坦化的碱性纳米抛光液,其特征在于:所述杀菌剂为异构噻唑啉酮。
7.根据权利要求1所述用于氧化锌化学机械平坦化的碱性纳米抛光液,其特征在于:所述助清洗剂为异丙醇。
8.根据权利要求1所述用于氧化锌化学机械平坦化的碱性纳米抛光液,其特征在于:溶剂为去离子水。
9.一种如权利要求1所述用于氧化锌化学机械平坦化的碱性纳米抛光液的应用,其特征在于用于制备阻变存储器,步骤如下:
1)在衬底Si/SiO2上沉积底电极,在底电极上沉积SiO2介质层,对SiO2介质层进行开孔刻蚀,然后沉积氧化锌阻变薄膜材料,填充覆盖所有阵列孔;
2)通过化学机械平坦化,利用所述的碱性纳米抛光液将多余的氧化锌阻变薄膜材料层进行去除并平坦化处理;
3)做出上电极,并引线制成器件。
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