[发明专利]处理装置、处理系统以及坐标校正方法无效
| 申请号: | 201110113476.2 | 申请日: | 2011-04-29 |
| 公开(公告)号: | CN102237262A | 公开(公告)日: | 2011-11-09 |
| 发明(设计)人: | 菅义明 | 申请(专利权)人: | 奥林巴斯株式会社 |
| 主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;G01B11/00;H01L21/66 |
| 代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 处理 装置 系统 以及 坐标 校正 方法 | ||
1.一种处理装置,该处理装置根据存储有载置台上载置的基板中的处理对象的坐标的制程来对上述基板中的上述处理对象执行规定处理,上述处理装置的特征在于,具备:
实际坐标确定单元,其确定上述载置台上载置的上述基板中的上述处理对象的实际坐标;以及
实际坐标登记单元,其将通过上述实际坐标确定单元确定出的上述实际坐标登记到上述制程中。
2.根据权利要求1所述的处理装置,其特征在于,
上述制程登记有上述处理对象在上述基板中的设计坐标,
上述实际坐标登记单元将上述实际坐标与上述设计坐标之差登记到上述制程中,由此将上述实际坐标登记到该制程中。
3.根据权利要求1所述的处理装置,其特征在于,
还具备通信部,该通信部向网络发送通过上述实际坐标登记单元登记有上述实际坐标的上述制程。
4.一种处理系统,其特征在于,具备:
处理装置,其根据存储有载置台上载置的基板中的处理对象的坐标的制程来对上述基板中的上述处理对象执行规定处理;以及
网络,其与多个上述处理装置相连接,
其中,上述处理装置具有:
实际坐标确定单元,其确定上述载置台上载置的上述基板中的上述处理对象的实际坐标;
实际坐标登记单元,其将通过上述实际坐标确定单元确定出的上述实际坐标登记到上述制程中;以及
通信部,其向网络发送通过上述实际坐标登记单元登记有上述实际坐标的上述制程。
5.一种坐标校正方法,该坐标校正方法用于校正制程中所登记的处理对象在载置台上载置的基板上的坐标,其中,使用上述制程来对上述基板中的上述处理对象执行规定处理,上述坐标校正方法的特征在于,包括:
实际坐标确定步骤,确定上述载置台上载置的上述基板中的上述处理对象的实际坐标;以及
实际坐标登记步骤,将通过上述实际坐标确定步骤确定出的上述实际坐标登记到上述制程中。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





