[发明专利]一种核微孔膜的生产方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种核微孔膜的生产方法。

背景技术

目前，核微孔膜用于防伪和过滤用途，受到市场欢迎，特别是用于防伪，其不可仿制和容易被消费者识别，更是高端客户的选择，所以市场需求快速增长。

核微孔膜的生产过程是：通过核反应堆产生的裂变粒子或者串列式重离子加速器产生的高能粒子去轰击(辐照)高分子材料膜，损伤其分子链，被损伤分子链的部分会形成不同于原材料的酸碱特性，然后将这种辐照轰击后的被损伤的高分子链置于碱液(或者酸液)中会被溶解(蚀刻)，从而形成密度为每平方厘米数十万至数千万个、孔径为微米级的微孔膜。

核微孔膜进行防伪加密的生产过程：目前采用的方法是在辐照后对不需要形成加密信息位置的高分子薄膜涂胶，从而在蚀刻时，只在没有涂胶的部位形成微孔，形成加密信息。该种方法生产核微孔膜具有以下缺点：1)由于在蚀刻前涂胶，并且采用的是一种抗蚀刻(耐酸碱)胶水，在后续的生产过程中容易反粘，使不需要形成微孔位置的高分子薄膜上的胶水被粘走，从而在进行蚀刻反应时该位置出现微孔，破坏加密信息的完整性。2)胶水会粘连在高分子薄膜的背面，从而堵塞构成加密信息的微孔，同样破坏加密信息的完整性。3)由于不需要形成加密信息位置的胶水被粘走，出现微孔，从而使微孔数量增加，膜的机械强度降低，易脆，废品率高，增加生产难度，影响生产效率。

发明内容

本发明的目的在于提供一种核微孔膜的生产方法，采用该方法生产核微孔膜，微孔膜的加密信息不易破坏，完整性好。

为达到上述目的，本发明采用如下技术方案：

一种核微孔膜的生产方法，其特征在于包括如下步骤：

(一)辐照：对高分子薄膜进行辐照；

(二)蚀刻：将辐照后的高分子薄膜放在酸液(或碱液)中蚀刻形成微孔；

(三)涂布堵孔：对不需要形成微孔位置的高分子薄膜进行涂布堵孔，形成具有完整加密信息的微孔膜。

进一步的，所述涂布过程中使用的涂料为高强度涂料。

进一步的，所述涂布过程中使用的涂料为光油树脂。

再进一步的，所述辐照过程中使用的高分子薄膜为单层PET膜。

更进一步的，所述辐照过程中所使用的高分子薄膜为一层PET膜和一层保护膜复合形成的双层膜，则在涂胶完成后增加步骤(四)剥离所述保护膜。

或者，所述辐照过程中所使用的高分子薄膜为一层PET膜和一层保护膜复合形成的双层膜，则在蚀刻后涂胶前先剥离所述保护膜。

所述保护膜采用抗酸碱蚀刻材料制作。

本发明与现有技术相比，具有以下优点：

1)在蚀刻后对不需要形成微孔位置的高分子薄膜进行涂布高强度堵孔涂料，堵塞该位置的微孔，形成的微孔膜加密信息不会被破坏，完整性好。

2)由于渗入微孔的涂料的分子力作用，使微孔膜的机械强度增加。

3)蚀刻后涂胶降低了废品率，便于后续工序的高速生产，提高了生产效率。

附图说明

图1是应用本发明的核微孔膜的防伪标签的结构示意图。

具体实施方式

实施例一

一种核微孔膜的生产方法，包括如下步骤：

(一)辐照：对高分子薄膜进行辐照，所使用的高分子薄膜为单层PET膜；

(二)蚀刻：将辐照后的高分子薄膜放在酸液(或碱液)中进行双面满版蚀刻形成微孔；

(三)涂布堵孔：使用光油树脂对不需要形成微孔位置的高分子薄膜进行涂布堵孔，形成具有完整加密信息的微孔膜。

实施例二

一种核微孔膜的生产方法，包括如下步骤：

(一)辐照：对高分子薄膜进行辐照，所使用的高分子薄膜为单层PET膜；

(二)复合：将单层辐照后PET膜复合保护膜。

(二)蚀刻：将辐照和复合后的高分子薄膜放在酸液(或碱液)中进行单面满版蚀刻形成微孔；

(三)涂布堵孔：使用光油树脂对不需要形成微孔位置的高分子薄膜进行涂布堵孔，形成具有完整加密信息的微孔膜。

实施例三

一种核微孔膜的生产方法，包括如下步骤：

(一)辐照：对高分子薄膜进行辐照，所使用的高分子薄膜为一层PET膜和一层保护膜复合形成的双层膜；

(二)蚀刻：将辐照后的复合膜放在酸液(或碱液)中进行单面满版蚀刻，在PET膜上形成微孔；

(三)涂布堵孔：使用光油树脂对不需要形成微孔位置的PET膜进行涂布堵孔，形成具有完整加密信息的微孔膜。

(四)剥离：将保护膜剥离。

本方法中的保护膜采用抗酸碱蚀刻材料制作。

实施例四