[发明专利]基板的固定装置及基于该装置的固定方法有效
申请号: | 201110109542.9 | 申请日: | 2011-04-28 |
公开(公告)号: | CN102651457A | 公开(公告)日: | 2012-08-29 |
发明(设计)人: | 王玉林;张磊;朱儒晖;陈珉;洪瑞;马占洁;梁逸南 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 王莹 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 固定 装置 基于 方法 | ||
技术领域
本发明涉及光电显示技术领域,尤其涉及一种基板的固定装置及基于该装置的固定方法。
背景技术
在光电显示技术领域,经常需要制作具有阵列图形的基板。例如在OLED(Organic Light Emitting Diode,有机发光二极管)技术领域,通常就需要制作OLED基板。
目前具有阵列图形的基板制作技术正处于实验室技术开发、中试技术开发向量产转化并存阶段,具有阵列图形的基板研发、中试以及量产用的成膜设备、曝光设备、刻蚀设备和蒸镀设备之间的差异巨大,而具有阵列图形的基板开发工艺流程长,设备昂贵,并随着研发与产业领域合作的加强,出现前段工艺设备基板尺寸与后段工艺设备基板尺寸不一致,导致技术的移植与合作出现瓶颈,因此同一基板在不同设备的不同尺寸基板托架之间的接合问题称为亟待解决的问题。现有技术中还没有一种解决上述问题的技术方案。
发明内容
(一)要解决的技术问题
本发明要解决的技术问题是:如何解决同一基板在不同设备的不同尺寸基板托架之间的接合问题。
(二)技术方案
为解决上述技术问题,本发明提供了一种基板的固定装置,包括基板和定位板;
所述基板表面设有对位标记,所述定位板上设有凹槽,所述基板位于定位板的凹槽内;
所述定位板上设有工艺对位标记(是指在形成图形的工艺过程中所形成的对位标记,例如蒸镀对位标记);所述对位标记与用于形成所述工艺对位标记的掩膜表面上的对位图标(用于与所述对位标记进行对位)相对应。
其中,所述定位板的上表面与基板的上表面在同一水平面上。
其中,所述工艺对位标记为蒸镀对位标记,所述工艺对位图标为蒸镀对位图标。
其中,所述基板表面还设有以所述对位标记为基点制作的阳极图案。
其中,所述阳极图案与蒸镀对位标记的相对位置固定。
其中,所述对位标记为光学对位标记。
本发明还提供了一种基板的固定方法,包括以下步骤:
S1、在基板表面制作对位标记,同时在定位板上制作凹槽,并在定位板上溅射金属薄膜;
S2、将所述基板放入定位板的凹槽内;
S3、在放置有基板的定位板的边缘形成光刻胶,将光学掩膜上的对位图标与基板上的对位标记进行对位,并利用光学掩膜上的工艺对位图标在定位板上形成工艺对位标记。
步骤S2中,以粘贴的方式将所述基板嵌合进定位板的凹槽内。
步骤S3中,以旋涂的方式在放置有基板的定位板的边缘形成光刻胶。
步骤S3中,所述工艺对位图标为蒸镀对位图标,所述工艺对位标记为蒸镀对位标记;利用光学掩膜上的蒸镀对位图标在定位板上形成蒸镀对位标记的方式为:将光学掩膜上的对位图标与基板上的对位标记进行对位后,对光学掩膜上的蒸镀对位图标区域进行曝光,然后通过显影、刻蚀工艺在定位板上所溅射的金属层上形成蒸镀对位标记。
(三)有益效果
本发明通过将基板粘贴于定位板上的凹槽内,使基板与定位板表面位于同一水平面,再通过在蒸镀对位图标位置进行曝光光刻,在定位板上的准确位置制作蒸镀对位标记,达到通过定位板上的对位标记,实现在蒸镀有机材料及金属电极过程中,基板精确定位的技术效果,从而解决了同一基板在不同设备的不同尺寸基板托架之间的接合问题,从而解决了前段工艺设备基板尺寸与后段工艺设备基板尺寸不一致引起的错位问题,降低了成本。
附图说明
图1是本发明的装置的侧视图;
图2是本发明的装置的总体立体图;
图3是分别示出了本发明的装置的各组成部分的立体图,(a)、(b)、(c)分别为定位板、基板和光学掩膜;
图4是本发明的方法流程图。
其中,1 基板;2 定位板;3 光学掩膜;4 阳极图案;5 对位图标;6 蒸镀对位图标;7 对位标记;8 蒸镀对位标记。
具体实施方式
下面结合附图和实施例,对本发明的具体实施方式作进一步详细说明。以下实施例用于说明本发明,但不用来限制本发明的范围。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择