[发明专利]壳体及其制作方法无效
| 申请号： | 201110108595.9 | 申请日： | 2011-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN102762047A | 公开（公告）日： | 2012-10-31 |
| 发明（设计）人： | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;李聪 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | H05K5/00 | 分类号： | H05K5/00;C23C14/35;C23C14/06;B44C5/04;B44F1/08 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 壳体 及其 制作方法 | ||
1.一种壳体，包括基体、结合层以及色彩层所述结合层形成于基体的表面，所述色彩层形成于结合层的表面，其特征在于：所述色彩层为Ti-O-N膜，其中钛的质量百分含量为80％-85％，氧的质量百分含量是在5％-10％，氮的质量百分含量是在5％-15％，该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标值介于72至80之间，a*坐标值介于-12至-6之间，b*坐标值介于22至28之间。
2.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述结合层为钛金属膜，其厚度0.1～0.3μm。
3.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述色彩层厚度为0.3～0.5μm。
4.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述基体为金属材料、玻璃或塑料。
5.一种壳体的制作方法，其包括如下步骤：
提供基体；
在该基体的表面磁控溅射结合层；
在该结合层的表面磁控溅射色彩层，磁控溅射所述色彩层以钛为靶材，以氧气及氮气为反应气体，氧气的流量为25～80sccm，氮气的流量为25～100sccm；所述色彩层为Ti-O-N膜，其中钛的质量百分含量为80％-85％，氧的质量百分含量是在5％-10％，氮的质量百分含量是在5％-15％，所述色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标值介于72至80之间，a*坐标值介于-12至-6之间，b*坐标值介于22至28之间。
6.如权利要求5所述的壳体的制作方法，其特征在于：形成该结合层的工艺参数为：设置钛靶的电源功率为8-10kw，对基体施加的偏压为0～200V，占空比为0～100％，镀膜时间为5～10分钟。
7.如权利要求5所述的壳体的制作方法，其特征在于：形成该色彩层的工艺参数为：设置钛靶的电源功率功率为8-12kw，对基体施加的偏压为0～250V，占空比为0～100％，镀膜时间为20～60分钟。
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