[发明专利]离子注入实时检测和控制装置无效
| 申请号： | 201110102572.7 | 申请日： | 2011-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN102751154A | 公开（公告）日： | 2012-10-24 |
| 发明（设计）人： | 洪俊华 | 申请（专利权）人： | 上海凯世通半导体有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/304 | 分类号： | H01J37/304 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人： | 薛琦;朱水平 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 离子 注入 实时 检测 控制 装置 | ||
1.一种离子注入实时检测和控制装置，其包括一束流传输系统、一电子枪和一工件，其特征在于，所述离子注入实时检测和控制装置还包括：
一电量测量模块，用于测量所述电子枪发射并进入所述工件的电量；以及
一扫描控制模块，用于根据所述电量测量模块测量的电量，控制工件相对离子束流的移动和/或控制所述束流传输系统生成的离子束流，进而控制注入剂量和注入均匀性。
2.如权利要求1所述的离子注入实时检测和控制装置，其特征在于，所述电量测量模块为一电流表。
3.如权利要求1所述的离子注入实时检测和控制装置，其特征在于，所述电子枪为PEF。
4.如权利要求1所述的离子注入实时检测和控制装置，其特征在于，所述工件为晶圆。
5.如权利要求1所述的离子注入实时检测和控制装置，其特征在于，所述扫描控制模块用于调节工件相对离子束流扫描的速度和幅度和/或所述束流传输系统生成的束流的束流角度分布和束流强度分布，进而控制注入剂量和注入均匀性。
6.一种离子注入实时检测和控制装置，其包括一束流传输系统和一电子枪，其特征在于，所述离子注入实时检测和控制装置还包括：
一探针，具有一偏置电压并用于接收所述电子枪产生的部分电子；
一电量测量模块，用于测量流入所述探针的电量；以及
一扫描控制模块，用于根据所述电量测量模块测量的电量控制工件相对离子束流扫描的移动和/或控制所述束流传输系统生成的离子束流，进而控制注入剂量和注入均匀性。
7.如权利要求6所述的离子注入实时检测和控制装置，其特征在于，所述电量测量模块为一电流表。
8.如权利要求6所述的离子注入实时检测和控制装置，其特征在于，所述电子枪为PEF。
9.如权利要求6所述的离子注入实时检测和控制装置，其特征在于，所述探针临近所述电子枪的电子发射口。
10.如权利要求6所述的离子注入实时检测和控制装置，其特征在于，所述扫描控制模块用于调节工件相对离子束流扫描的速度和幅度和/或所述束流传输系统生成的束流的束流角度分布和束流强度分布，进而控制注入剂量和注入均匀性。
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