[发明专利]基于超材料的漫反射装置

权利要求书

1.一种基于超材料的漫反射装置，其特征在于，包括：超材料和设置于所述超材料一侧表面上的反射层，所述超材料包括片状的基板和附着在所述基板上的多个人造微结构，所述基板分成若干晶格，所述人造微结构置于所述晶格中，每一晶格与其上的人造微结构构成一个超材料单元，每个超材料单元的等效介电常数和等效磁导率不规则分布。

2.如权利要求1所述的基于超材料的漫反射装置，其特征在于，所述片状的基板上不规则分布有多个拓扑结构相同且几何尺寸不同的人造微结构。

3.如权利要求1或2所述的基于超材料的漫反射装置，其特征在于，每个所述人造微结构为由至少一根金属丝组成的平面结构或立体结构。

4.如权利要求3所述的基于超材料的漫反射装置，其特征在于，所述金属丝为铜丝或银丝。

5.如权利要求1或2所述的基于超材料的漫反射装置，其特征在于，所述基板由陶瓷材料、环氧树脂、聚四氟乙烯、FR-4复合材料或F46复合材料制得。

6.根据权利要求1或2所述的基于超材料的漫反射装置，其特征在于，所述人造微结构具有对电场响应的拓扑结构。

7.根据权利要求6所述的基于超材料的漫反射装置，其特征在于，所述人造微结构为“工”字形、“十”字形或“H”形。

8.根据权利要求1或2所述的基于超材料的漫反射装置，其特征在于，所述人造微结构具有对磁场响应的拓扑结构。

9.根据权利要求8所述的基于超材料的漫反射装置，其特征在于，所述人造微结构为带有缺口的多边形或带有缺口的环形。

10.如权利要求1所述的基于超材料的漫反射装置，其特征在于，所述反射层由金属材料制成。