[发明专利]触控面板及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及触控技术领域，尤其涉及一种触控面板及其制造方法，有效改善触控面板的外观及光学性能。

背景技术

近年来，随着触控技术的不断发展，触控面板已广泛应用于诸如手机、个人数字助理(PDA)、游戏机输入接口、电脑触控屏等各种电子产品中。在实际应用中，触控面板通常与液晶显示器相结合形成触控屏，安装于各式电子产品上，使用者通过触控屏输入数据和指令，取代了诸如键盘、鼠标等传统输入装置，给使用者带来极大方便。

一般而言，触控面板的透明导电玻璃主要由透明基板和透明导电层所构成，在原本不导电的透明基板上，镀上一层可导电的透明导电材料，通常采用透明金属氧化物，如氧化铟锡(Indium Tin Oxide，简称ITO)等，并经蚀刻形成具有一定的电极图案的透明导电层，如形成以单向电极间隔分布或双向电极交错分布等形式的电极图案。

其中，电极图案包括ITO区域(即电极区域)和蚀刻区域，蚀刻区域上无导电薄膜ITO，光线可直接射至透明基板上。由于两个区域对光线的折射率互不相同，使用者能观察到ITO区域和蚀刻区域交接的蚀刻线，显示画面经常有断层、影像模糊化、显示颗粒化或者分辨率降低等情形发生，使画面质量不佳。在使用时，触控面板的透明导电玻璃还需与面板玻璃相贴合，便于使用者触摸，通常采用光学胶(OCA)来贴合。尽管通过贴合光学胶(OCA)可以使得画面不佳得到一定程度的改善，但还是不能很好地改善蚀刻线可见的问题。

公开号为“CN101078820A”的发明专利，名称为“一种令透明基板上透明电极不可见的处理方法”，其公开了一种遮盖电容式触控面板上蚀刻线的方法，如图1所示，是通过选用折射率与透明导电材料(ITO)相近的透明氧化物，如氧化锑(Sb₂O₃)、氧化钛(TiO₂)等，采用喷涂或溅射等涂布方式在所述导电层上涂布一折射率匹配层31。然而，由于采用高折射率材料覆设折射率匹配层31，其厚度不能太大，否则穿透率会相应地变低，透明导电层的雾度值(Haze)会变大。因而，折射率匹配层31上需要再覆设一保护层，通常以二氧化硅(SiO₂)或有机聚合物制成。且该折射率匹配层经高温烘烤后，存在附着力差、硬度低的特点。另外，该方法还需要采用OCA等光学胶与面板玻璃贴合后才可以体现蚀刻线不可见的效果，增加了制程，使得触控面板的制造变得更加复杂，同时增加了成本。

发明内容

有鉴于此，本发明的目的在于提供一种触控面板，其上透明电极的蚀刻线不可见，具有良好的光学特性，避免出现断层和影像模糊，同时减低生产成本。

本发明所采用的技术方案是：

一种触控面板，包括电极层和保护层，所述保护层覆盖于所述电极层上，所述电极层上包括多个间隔设置的透明电极，所述保护层中包括有折射率大于1.8的透明金属氧化物，使该保护层的折射率与所述透明电极的折射率相匹配以达到面板均匀可视。

其中，所述透明金属氧化物是二氧化钛或者二氧化锆。

所述保护层的折射率是1.6-2.0，其厚度为0.5-3μm。

本发明的目的还在于提供一种触控面板制造方法，可使其上透明电极的蚀刻线不可见，不需增加触控面板的制作步骤，令触控面板具有良好的光学性能。

本发明所采用的技术方案是：

一种触控面板制造方法，其特征在于该方法中包括：将折射率大于1.8的透明金属氧化物添加至保护层材料中；以及将该保护层材料敷设于透明电极上形成一保护层，使得该保护层的折射率与所述透明电极的折射率相匹配。

所述保护层材料的折射率为1.6-2.0，其厚度为0.5-3μm。

所述透明金属氧化物是二氧化钛或者二氧化锆。

在将折射率大于1.8的透明金属氧化物添加至保护层材料时，还添加有助溶剂在所述保护层材料中。所述助溶剂为二氧化硅，使得所述透明金属氧化物均匀分散于所述保护层材料中。

本发明所提供的触控面板及其制造方法，可使其上透明电极蚀刻线不可见，是直接利用高折射率的保护层材料覆设于透明电极上，缩小蚀刻区域与透明电极区域对光线折射率的差异，从而有效避免因折射率不同而导致的画面质量不佳等问题，使得触控面板具有良好的外观品质。

附图说明

图1是现有触控面板的结构示意图；

图2是本发明触控面板的结构示意图；

图3是本发明在覆设保护层前后测得的触控面板表面的反射率曲线图；