[发明专利]一种柔性光电子器件用基板及其制备方法

权利要求书

1.一种柔性光电子器件用基板，包括柔性衬底和导电层，其特征在于，所述柔性衬底和导电层由以下两种方式中的一种构成：①柔性衬底为紫外光固化的有机硅胶粘剂，导电层为薄层碳纳米管，所述薄层碳纳米管的空隙中填充有石墨烯；②柔性衬底为掺杂石墨烯的紫外光固化的有机硅胶粘剂，导电层为薄层碳纳米管，所述薄层碳纳米管的空隙中填充有掺杂石墨烯的紫外光固化的有机硅胶粘剂，所述紫外光固化的有机硅胶粘剂原料包括以下质量百分比的组份：92～99.5％的光敏性的聚硅氧烷、0.1～5％的光引发剂和0.4～6％的稀释剂和助剂，所述薄层碳纳米管的厚度小于或等于100nm。

2.根据权利要求1所述的柔性光电子器件用基板，其特征在于，在第②种方式中石墨烯的掺杂质量比小于或等于40％。

3.根据权利要求1所述的柔性光电子器件用基板，其特征在于，所述光敏性的聚硅氧烷包括硫醇-烯烃官能化聚硅氧烷、丙烯酸酯化聚硅氧烷、环氧官能化聚硅氧烷、苯乙烯基聚硅氧烷或乙烯基醚官能化聚硅氧烷。

4.根据权利要求1所述的柔性光电子器件用基板，其特征在于，所述光引发剂包括安息香及其衍生物安息香甲醚、安息香乙醚和安息香异丙醚、苯乙酮类、二苯甲酮和2-羟基-2-甲基-1-苯基丙酮、烷基苯基酮类、α-羟烷基苯酮类、乙酰苯衍生物、二苯基碘鎓盐、二芳基碘鎓盐或三芳基碘鎓盐。

5.根据权利要求1所述的柔性光电子器件用基板，其特征在于，所述稀释剂包括甲苯、二甲苯、活性环氧树脂稀释剂、环醚、环内酯或乙烯基醚单体；所述助剂包括填充剂、稳定剂和交联剂。

6.一种柔性光电子器件用基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

①对表面粗糙度小于1nm的刚性基板进行清洗，清洗后用干燥氮气吹干；

②采取旋涂或喷涂或自组装或喷墨打印或丝网印刷的方式在洁净的刚性基板上制备碳纳米管层；

③在碳纳米管层上旋涂或喷涂掺杂石墨烯的紫外光固化的有机硅胶粘剂层，或先旋涂或滴涂或喷涂石墨烯，再旋涂或滴涂或喷涂紫外光固化的有机硅胶粘剂层，所述紫外光固化的有机硅胶粘剂原料包括以下质量百分比的组份：92～99.5％的光敏性的聚硅氧烷、0.1～5％的光引发剂和0.4～6％的稀释剂和助剂，所述薄层碳纳米管的厚度小于或等于100nm；

④对或滴涂基板表面进行紫外光固化处理30秒；

⑤将碳纳米管层和固化后的紫外光固化的有机硅胶粘剂层或掺杂石墨烯的紫外光固化的有机硅胶粘剂层剥离刚性基板表面，形成柔性导电基板；

⑥测试柔性导电基板的透过率、电导率和表面形貌的各项参数。