[发明专利]一种柔性光电子器件用基板及其制备方法无效
| 申请号: | 201110096772.6 | 申请日: | 2011-04-18 |
| 公开(公告)号: | CN102208541A | 公开(公告)日: | 2011-10-05 |
| 发明(设计)人: | 于军胜;陈苏杰;于欣格;蒋亚东 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
| 主分类号: | H01L51/44 | 分类号: | H01L51/44;H01L51/46;C09J167/06;C09J4/00;H01L51/48 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 柔性 光电子 器件 用基板 及其 制备 方法 | ||
1.一种柔性光电子器件用基板,包括柔性衬底和导电层,其特征在于,所述导电层为石墨烯薄膜,所述柔性衬底为紫外光固化胶粘剂,所述紫外光固化胶粘剂包括自由基型紫外光固化胶粘剂、阳离子型紫外光固化胶粘剂以及它们的混合体系。
2.根据权利要求1所述的柔性光电子器件用基板,其特征在于,所述自由基型紫外光固化胶粘剂和阳离子型紫外光固化胶粘剂的混合体系中自由基型紫外光固化胶粘剂和阳离子型紫外光固化胶粘剂的质量比为10∶1~1∶10。
3.根据权利要求1或2所述的柔性光电子器件用基板,其特征在于,所述自由基型紫外固化胶粘剂包括以下质量百分比的组份:90~99.5%的基础树脂、0.2~3%的单体、0.1~3%的光引发剂和0.2~6%的光敏剂及助剂;所述阳离子型紫外光固化胶粘剂包括以下质量百分比的组份:90~99.5%的阳离子单体、0.4~8%的稀释剂和0.1~3%的阳离子光引发剂。
4.根据权利要求3所述的柔性光电子器件用基板,其特征在于,所述基础树脂包括不饱和聚酯树脂、丙烯酸系树脂或多硫醇-多烯体系;所述单体包括苯乙烯及其衍生物、单官能团或多官能团丙烯酸;所述光引发剂包括安息香及其衍生物安息香甲醚、安息香乙醚、安息香异丙醇或乙酰苯衍生物;光敏剂包括二苯甲酮、硫杂蒽醌或米蚩酮,助剂包括增塑剂、触变剂、填充剂、防静电剂、交联剂、阻燃剂和偶联剂;所述阳离子单体包括各种环氧树脂或改性环氧树脂或含氟以及不含氟的混合树脂或脂肪族和双酚D-型混合环氧树脂;所述稀释剂包括甲苯、二甲苯、活性环氧树脂稀释剂以及各种环乙醚、环内酯或乙烯基醚单体;所述阳离子光引发剂包括碘三芳基碘鎓盐、三芳基硫鎓盐或三芳基硒鎓盐。
5.根据权利要求4所述的柔性光电子器件用基板,其特征在于,所述丙烯酸系树脂包括聚酯-丙烯酸酯、环氧-丙烯酸酯、氨基甲酸酯-丙烯酸酯或聚醚-丙烯酸酯。
6.根据权利要求4所述的柔性光电子器件用基板,其特征在于,所述多硫醇-多烯体系包括以下四种物质:
7.一种柔性光电子器件用基板的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
①对表面粗糙度小于1nm的刚性基板(如铜箔片或铁箔片或镍箔片)进行清洗,清洗后用干燥氮气吹干;
②采用化学气相沉积的方法在洁净的刚性基板上制备石墨烯薄膜,其制备条件包括:所采用的碳源为甲烷、乙烷、丙烷、丁烷、甲醇、乙醇中的一种或多种,石墨烯薄膜的化学气相沉积生长环境为:温度为700℃~1000℃的常压或负压下;
③采用旋涂或喷涂的方式在石墨烯薄膜上制备紫外光固化胶粘剂层,所述紫外光固化胶粘剂包括自由基型紫外光固化胶粘剂、阳离子型紫外光固化胶粘剂以及它们的混合体系;
④对紫外光固化胶粘剂层进行紫外光固化处理30秒;
⑤将石墨烯薄膜和固化后的紫外光固化胶粘剂层剥离刚性基板表面,形成柔性导电基板;
⑥测试柔性导电基板的透过率、电导率和表面形貌的各项参数。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择





