[发明专利]投影曝光装置、器件制造方法以及光学部件

权利要求书

1.一种在投影曝光装置的基片载台上安装的光学部件，上述投影曝光装置用曝光束照明掩模，利用投影光学系统将上述掩模的图案经液体转印到保持在上述基片载台上的基片上，其特征在于，具备：

被上述曝光束照射的光照射面；

利用在上述光照射面的表面上形成的由二氧化硅、氟化镁和氟化钙中的至少一种构成的微粒子层构成的粘接微粒子层；以及

利用在上述粘接微粒子层的表面上形成的非晶质氟树脂构成的疏水性膜。

2.一种在投影曝光装置的基片载台上安装的光学部件，上述投影曝光装置用曝光束照明掩模，利用投影光学系统将上述掩模的图案经液体转印到保持在上述基片载台上的基片上，其特征在于，具备：

被上述曝光束照射的光照射面；

在上述光照射面的表面上形成的粘接面；以及

由在上述粘接面的表面上形成的非晶质氟树脂构成的疏水性膜。

3.如权利要求2中所述的光学部件，其特征在于：

上述粘接面是用氟化氢进行刻蚀后形成的刻蚀面。

4.如权利要求1或2中所述的光学部件，其特征在于：

上述光照射面具有基体材料玻璃。

5.如权利要求4中所述的光学部件，其特征在于：

上述光照射面具有在上述基体材料玻璃的至少一部分上形成的金属膜。

6.一种投影曝光装置，其特征在于，具备：

上述基片载台；

在上述基片载台上设置的权利要求1或2中所述的光学部件；以及

将上述掩模的图案经液体投影到在基片载台上保持的基片上的投影光学系统。

7.一种投影曝光装置，上述投影曝光装置用曝光束照明掩模，利用投影光学系统将上述掩模的图案经液体转印到保持在基片载台上的基片上，其特征在于：

在上述基片台上具备光学部件，上述光学部件具有：被上述曝光束照射的光照射面；在上述光照射面的表面上形成的粘接微粒子层；以及

由在上述粘接微粒子层的表面上形成的非晶质氟树脂构成的疏水性膜。

8.如权利要求7中所述的投影曝光装置，其特征在于：

上述粘接微粒子层利用由二氧化硅(SiO₂)、氟化镁(MgF₂)和氟化钙(CaF₂)中的至少一种构成的微粒子层构成。

9.如权利要求7中所述的投影曝光装置，其特征在于：

上述光照射面具有基体材料玻璃。

10.如权利要求9中所述的投影曝光装置，其特征在于：

上述光照射面具有在上述基体材料玻璃的至少一部分上形成的金属膜。

11.一种光学部件，其特征在于，具备：

具有光照射面的部件主体；

在上述光照射面的表面上形成的、利用从由二氧化硅、氟化镁和氟化钙构成的一组中选择的至少一种微粒子形成的微粒子层；以及

利用非晶质氟树脂在上述微粒子层的表面上形成的疏水性膜。

12.如权利要求11中所述的光学部件，其特征在于：

上述部件主体是传感器.

13.一种光学部件，其特征在于，具备：

具有光照射面的部件主体；

在上述光照射面的表面上利用刻蚀形成的粘接面；以及

利用非晶质氟树脂在上述粘接面上形成的疏水性膜。

14.如权利要求13中所述的光学部件，其特征在于：

上述刻蚀是用氟化氢进行的刻蚀。

15.如权利要求13中所述的光学部件，其特征在于：

上述部件主体是传感器。

16.一种器件制造方法，其特征在于：

使用权利要求6至10中任一项所述的投影曝光装置。