[发明专利]一种多层铜互连制造方法

权利要求书

1.一种铜互连制造方法，其特征在于：利用溅射或原子层沉积技术制备氮化铜薄膜，将飞秒激光照射在氮化铜薄膜上需要铜互连的区域，利用激光的热效应分解氮化铜形成铜单质，一步化实现铜互连。

2.如权利要求1所述的一种铜互连制造方法，其特征在于：所述沉积的氮化铜薄膜厚度在50~200 nm。

3.如权利要求1所述的一种铜互连制造方法，其特征在于：所述飞秒激光的波长200~400 纳米，脉冲宽度在25~100飞秒，单脉冲功率在0.2~2 毫焦，重复频率在600~1000赫兹。

4.如权利要求1所述的一种铜互连制造方法，其特征在于：所述氮化铜薄膜放在一个能三维调节的样品台上，飞秒激光直接照射在氮化铜薄膜表面上，通过样品台的高低升降和水平方向调节，控制飞秒激光聚焦斑点的位置，样品台在水平方向移动，利用飞秒激光在需要铜互连的区域扫描， 形成铜互连，未扫描到的区域仍为氮化铜，无需去除，并与铜连线形成一个平面。