[发明专利]聚酰胺酸、用其制成的二层法单面挠性覆铜板及其制作方法无效
| 申请号: | 201110084389.9 | 申请日: | 2011-04-03 |
| 公开(公告)号: | CN102304228A | 公开(公告)日: | 2012-01-04 |
| 发明(设计)人: | 周韶鸿;梁立;张翔宇;杨小进;茹敬宏;伍宏奎 | 申请(专利权)人: | 广东生益科技股份有限公司 |
| 主分类号: | C08G73/10 | 分类号: | C08G73/10;B32B15/08;B32B15/20 |
| 代理公司: | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人: | 林才桂 |
| 地址: | 523000 广东省东莞市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 聚酰胺 制成 二层法 单面 挠性覆 铜板 及其 制作方法 | ||
1.一种聚酰胺酸,其特征在于,其由芳香族二胺与芳香族四酸二酐聚合制得,所述芳香族二胺包括有腈基侧基的芳香族二胺,该聚酰胺酸为含有以下通式(I),或通式(I)和(II)所示结构单元的侧链腈基聚酰胺酸:
上述通式中Ar1和Ar2是具有一个或多个芳香环的四价有机基团,Ar3是具有一个或多个芳香环的二价有机基团,R为选自
中的二价基团。
2.如权利要求1所述的聚酰胺酸,其特征在于,所述芳香族二胺与芳香族四酸二酐的比例为0.9-1.1∶1。
3.如权利要求1所述的聚酰胺酸,其特征在于,所述通式(I)所示结构单元所占比例为10-100摩尔%,通式(II)所示结构单元所占比例为0-90摩尔%。
4.如权利要求1所述的聚酰胺酸,其特征在于,所述聚酰胺酸还含有通式(I)、(II)所示结构单元以外的其它结构单元,该其它结构单元所占比例≤20摩尔%。
5.如权利要求1所述的聚酰胺酸,其特征在于,所述通式(I)、(II)所示结构单元中的Ar1、Ar2是芳香族四酸二酐生成的芳香族四羧酸的残基,芳香族四酸二酐包括有均苯四酸二酐、3,3’,4,4’-二苯甲酮四酸二酐、2,2’3,3’-二苯甲酮四酸二酐、3,3’,4,4’-联苯四酸二酐、2,2’,3,3’-联苯四酸二酐、2,3,3’,4’-联苯四酸二酐、4,4’-氧双邻苯二甲酸二酐、萘-2,3,6,7-四酸二酐、萘1,2,5,6-四酸二酐、萘-1,2,4,5-四酸二酐、萘-1,4,5,8-四酸二酐、及萘1,2,6,7-四酸二酐。
6.如权利要求1所述的聚酰胺酸,其特征在于,所述腈基侧基的芳香族二胺为下述通式(V)所示的芳香族二胺中的一种或多种:
其中R为选自
中的二价基团。
7.如权利要求1所述的聚酰胺酸,其特征在于,所述通式(I)、(II)所示结构单元酰亚胺化后通式分别如下(III)、(IV)所示:
其中Ar1和Ar2是具有一个或多个芳香环的四价有机基团,Ar3是具有一个或多个芳香环的二价有机基团,R为选自
中的二价基团。
8.一种使用如权利要求1所述的聚酰胺酸制作的二层法单面挠性覆铜板,其特征在于,包括:铜箔、及设于铜箔上的聚酰亚胺层,该聚酰亚胺层由所述聚酰胺酸涂覆在铜箔上经高温酰亚胺化形成;所述铜箔厚度≤50μm,所述聚酰亚胺层的厚度为1-50μm。
9.一种制作如权利要求8所述的二层法单面挠性覆铜板的方法,其特征在于,包括下述步骤:
步骤1,提供铜箔;
步骤2,制备所述聚酰胺酸溶液;将芳香族二胺溶解于适量的溶剂中,溶解温度为20-100℃,待芳香族二胺完全溶解后,缓慢加入芳香族四酸二酐,在空气或氮气气氛下反应3-24小时,反应结束后获得具有一定粘度的聚酰胺酸溶液;所述芳香族二胺包括有腈基侧基的芳香族二胺;
步骤3,通过一次涂布方式将上述制得的聚酰胺酸溶液涂覆在铜箔上,在80-200℃范围内干燥除去溶剂,聚酰胺酸溶液在铜箔上形成聚酰胺酸前体层;
步骤4,将上述制得的具有聚酰胺酸前体层的铜箔在氮气保护下,于300-400℃范围内进行酰亚胺化,聚酰胺酸前体层形成聚酰亚胺层,即制得二层法单面挠性覆铜板。
10.如权利要求9所述的二层法单面挠性覆铜板的制作方法,其特征在于,所述铜箔厚度≤50μm,所述聚酰亚胺层的厚度为1-50μm;所述溶剂优选高沸点的极性非质子溶剂,为选用N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、二甲基亚砜、乙腈、六甲基磷酰胺、六甲基磷酰三胺、N-甲基吡咯烷酮中的一种或多种的混合溶剂。
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