[发明专利]磷硅镉多晶料的合成方法无效

专利信息
申请号: 201110083363.2 申请日: 2011-04-02
公开(公告)号: CN102168305A 公开(公告)日: 2011-08-31
发明(设计)人: 陶绪堂;张国栋;王善朋;施琼;阮华棚;蒋民华 申请(专利权)人: 山东大学
主分类号: C30B28/02 分类号: C30B28/02;C30B29/10
代理公司: 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 代理人: 许德山
地址: 250100 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 磷硅镉 多晶 合成 方法
【权利要求书】:

1.磷硅镉多晶料的合成方法,步骤如下:

1)将纯度为99.999%的磷、硅、镉三种单质原料按硅∶镉∶磷=1∶1∶2~2.05摩尔比装入合成坩埚中;将合成坩埚装入石英管中,抽真空至2×10-4Pa以下后封结石英管;

2)将上述真空封结的石英管装入单温区炉的炉管中,将单温区炉从室温以30~50℃/h的升温速率升温至350-750℃,然后在此温度保温20~25h;然后以15~20℃/h的升温速率升温至1140~1160℃,在此温度保温20~35h,然后以50~100℃/h降温速率降温至300℃,再自然降温至室温,打开合成坩埚即得到磷硅镉多晶料。

2.根据权利要求1所述的磷硅镉多晶料的合成方法,其特征在于所用的合成坩埚的材质为石墨或氮化硼。

3.根据权利要求1所述的磷硅镉多晶料的合成方法,其特征在于所述单温区炉是垂直管式电阻炉或水平管式电阻炉。

4.根据权利要求1所述的磷硅镉多晶料的合成方法,其特征在于步骤2)的升温、降温控制如下:将单温区炉从室温以40~45℃/h的升温速率升温至500~600℃,然后在此温度保温22h;然后以20℃/h的升温速率升温至1150℃,在此温度保温20h,然后以60℃/h降温速率降温至300℃,再自然降温至室温。

5.权利要求1所述方法所用的装置,包括合成坩埚、可密封石英管、炉体和温度控制单元,所述炉体包括外壳、加热元件、炉管,加热元件与炉管之间为保温材料,所述加热元件为电阻丝或硅碳棒;所述温度控制单元包括控温热电偶和温度控制仪表。

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