[发明专利]一种压电厚膜驱动的横向MEMS微驱动器及其制作方法无效
| 申请号: | 201110083195.7 | 申请日: | 2011-04-02 |
| 公开(公告)号: | CN102176506A | 公开(公告)日: | 2011-09-07 |
| 发明(设计)人: | 赵全亮;何广平;谭晓兰;黄昔光;袁俊杰;曹茂盛 | 申请(专利权)人: | 北方工业大学 |
| 主分类号: | H01L41/09 | 分类号: | H01L41/09;H01L41/22;B81B3/00;B81C1/00 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 100144 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 压电 驱动 横向 mems 驱动器 及其 制作方法 | ||
1.一种压电厚膜驱动的横向MEMS微驱动器,其特征在于:包括由衬底形成的“T”形截面悬臂梁和两个PZT压电厚膜驱动层;两个压电厚膜驱动层位于“T”形截面悬臂梁的上表面并呈对称分布,其中PZT压电厚膜驱动层的厚度大于1μm。
2.如权利要求1所述的压电厚膜驱动的横向MEMS微驱动器的制作方法,其特征在于具体步骤如下:
1)在Si基片双面生长一层SiO2,并刻蚀背面SiO2形成方形刻蚀窗口;运用深硅干法刻蚀技术刻蚀Si基片背面窗口并达到所需深度,形成深槽;
2)运用溶胶-凝胶法在图形化电极的Pt/Ti/SiO2/Si基片正面制备厚度大于2μm的PZT压电厚膜,经过PZT厚膜的湿法刻蚀技术形成两个压电厚膜驱动层结构图形;
3)利用溅射和剥离工艺在PZT压电厚膜表面制作Pt/Ti双层金属上电极及引线;
4)利用干法刻蚀技术刻蚀Si基片正面,刻蚀深度即为压电悬臂梁结构层厚度;
5)利用光刻工艺,在Si基片背面深槽中形成两个对称刻蚀窗口,窗口之间距离即为“T”形截面悬臂梁垂直侧壁结构的宽度;运用深硅干法刻蚀技术刻蚀Si基片背面两个窗口并与正面深槽穿通完成悬浮结构释放,最终形成压电厚膜驱动的“T”形截面悬臂梁式横向MEMS微驱动器。
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