[发明专利]一种表面集成碳纳米结构的碳微结构及其制备方法

权利要求书

1.一种表面集成碳纳米结构的碳微结构的制备方法，包括如下步骤：

(1) 预处理及光刻步骤，得到图案化的有机聚合物微结构

(1.1)预处理：光刻前在基片上刻蚀与所述有机聚合物微结构对应的微坑结构；

(1.2)匀胶：在预处理后的基片上涂覆光刻胶，利用匀胶机进行匀胶；并对匀胶后的基片进行前烘处理；

(1.3)曝光：将前烘处理后的基片使用掩膜版进行对准曝光，使曝光区域与基片上的微坑阵列重合，曝光后将基片进行中烘处理；

(1.4)显影：对中烘处理后的基片进行显影，最后用去离子水冲洗，并进行后烘处理，得到有机聚合物微结构；

(2)沉积金属步骤：在所述有机聚合物微结构上沉积一层或多层金属层，作为催化剂；

(3)热解步骤：在惰性气体或其混合气体环境下进行多步热解，其中各步热解温度不同；

通过上述步骤，即可形成表面集成碳纳米结构的碳微结构。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述一层金属层为镍层、铜层、钼层或铂层。

3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述的多层金属层中，至少有一层为镍层、铜层、钼层或铂层。

4.根据权利要求1-3之一所述的制备方法，其特征在于，所述的光刻胶中添加有纳米结构。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述纳米结构包括碳纳米管或碳纳米纤维。

6.一种利用权利要求1-5之一的制备方法制备的碳微结构。

7.根据权利要求6所述的碳微结构，其特征在于，所述的碳微结构中，其表面集成的纳米结构包括呈分支状的纳米结构。