[发明专利]喷墨记录设备有效
申请号: | 201110070983.2 | 申请日: | 2011-03-21 |
公开(公告)号: | CN102205711B | 公开(公告)日: | 2011-10-05 |
发明(设计)人: | 寺田宏平 | 申请(专利权)人: | 兄弟工业株式会社 |
主分类号: | B41J2/01 | 分类号: | B41J2/01 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 车文;张建涛 |
地址: | 日本爱知*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 喷墨 记录 设备 | ||
1.一种喷墨记录设备,所述喷墨记录设备将墨的液滴喷射到介质 上以进行记录,所述喷墨记录设备包括:
喷墨头,所述喷墨头具有喷射表面,在所述喷射表面上形成有多 个喷嘴,通过所述多个喷嘴喷射墨;
第一滑架,所述喷墨头安装在所述第一滑架上;
引导构件,所述引导构件在与所述喷射表面平行的第一方向上延 伸;
移动机构,所述移动机构使所述第一滑架沿所述引导构件在所述 第一方向上往复移动;
输送机构,所述输送机构沿输送表面在与所述第一方向垂直的第 二方向上输送所述介质,所述输送表面面对所述喷射表面且与所述第 一方向平行;以及
第二滑架,所述第二滑架在跟随所述第一滑架的移动的同时能在 所述第一方向上往复移动,并且所述第二滑架能相对于所述第一滑架 在与所述输送表面垂直的第三方向上相对移动,所述第二滑架包括:
保护构件,所述保护构件布置在所述喷墨头的沿所述第一方向的 一侧,以保护所述喷射表面不受所述介质的影响;以及
调节构件,所述调节构件调节所述第二滑架在所述第三方向上的 移动,使得所述保护构件的相对于所述输送表面设置的最接近部分在 所述第三方向上同所述喷射表面相比总是较接近所述输送表面设置。
2.根据权利要求1所述的喷墨记录设备,其中在所述保护构件最 紧密接近所述输送表面的条件下,在所述喷射表面与所述保护构件的 所述最接近部分之间关于所述第三方向设置的第一距离大于第二距 离,所述第二距离关于所述第三方向设置,并且所述第二滑架能相对 于所述第一滑架相对移动所述第二距离。
3.根据权利要求1所述的喷墨记录设备,其中所述保护构件是由 在所述第二方向上延伸的轴以可旋转的方式支撑的辊。
4.根据权利要求1所述的喷墨记录设备,其中所述保护构件关于 所述第二方向布置在比布置所述喷嘴的范围宽的范围中。
5.根据权利要求1所述的喷墨记录设备,其中所述调节构件具有 接触部分,所述接触部分抵靠所述引导构件,以调节所述第二滑架关 于所述第三方向的移动。
6.根据权利要求1所述的喷墨记录设备,其中所述保护构件包括 关于所述第一方向设置在所述喷墨头的两侧的一对保护构件。
7.根据权利要求6所述的喷墨记录设备,其中所述第二滑架还包 括连接构件,所述连接构件使布置在所述喷墨头的关于所述第一方向 的两侧的所述一对保护构件连接。
8.根据权利要求1所述的喷墨记录设备,还包括偏压构件,所述 偏压构件由所述第一滑架支撑,并且所述偏压构件在使所述第二滑架 关于所述第三方向与所述输送表面分离的分离方向上偏压所述第二滑 架。
9.根据权利要求5所述的喷墨记录设备,其中所述接触部分从所 述输送表面的一侧抵靠所述引导构件,以调节所述第二滑架在关于所 述第三方向与所述引导构件分离的分离方向上的移动。
10.根据权利要求9所述的喷墨记录设备,其中所述第二滑架布 置成关于所述第三方向重叠所述第一滑架的一部分;并且
被调节了在与所述引导构件分离的所述分离方向上的移动的所述 第二滑架调节所述第一滑架在与所述引导构件分离的所述分离方向上 的移动。
11.根据权利要求3所述的喷墨记录设备,其中所述辊的表面由 具有高的相对于墨的拒液性的材料形成。
12.根据权利要求1所述的喷墨记录设备,其中所述第二滑架具 有在所述第一方向上抵靠所述第一滑架的侧表面的抵靠表面,并且所 述抵靠表面和所述第一滑架的侧表面构造成能在所述第三方向上滑 动。
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