[发明专利]再泵浦激光设备及其获得再泵浦激光的方法

权利要求书

1.一种获得再泵浦激光的方法，包括：

1)提供由直流电流控制的半导体激光器；

2)在该半导体激光器的直流成份上耦合进微波；

3)提供锁频激光系统，其输出的激光的频率为f_main，将该频率为f_main的激光注入到上述半导体激光器中；

4)调节半导体激光器的电流，使锁频激光系统的频率注入到半导体激光器的-1级光上并锁定-1级；

5)使用半导体激光器发出的+1级光作为再泵浦光。

2.根据权利要求1所述的方法，其中频率f_main选择为适合作为用于铷87原子冷却的激光的频率。

3.根据权利要求1所述的方法，其中上述耦合进的微波的频率为3.4G。

4.根据权利要求1所述的方法，其中该方法还包括在上述步骤4)中，利用FP腔和示波器来判断是否进入注入锁定状态。

5.根据权利要求1所述的方法，其中该方法还包括使锁频激光系统发出的激光与半导体激光器发出的激光平行性一致及横模匹配。

6.根据权利要求1所述的方法，其中该方法还包括通过控制锁频激光系统的注入功率来控制锁频激光系统发出的激光与半导体激光器发出的激光的功率比值，通过控制半导体激光器的电流来调节半导体激光器的频率。

7.一种再泵浦激光设备，包括：

带有微波耦合模块和直流电流控制器的半导体激光器；

微波发生器，被耦合到微波耦合模块；

锁频激光系统，其输出的激光被注入到半导体激光器中。

8.根据权利要求7所述的设备，还包括FP腔和示波器，用于判断是否进入注入锁定状态。

9.根据权利要求7所述的设备，其中锁频激光系统是饱和吸收锁频激光系统。

10.根据权利要求7所述的设备，其中微波发生器为射频源。