[发明专利]一种电容式触控面板及其制造方法无效
| 申请号: | 201110066624.X | 申请日: | 2011-03-14 |
| 公开(公告)号: | CN102541368A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
| 发明(设计)人: | 丁学工;王科磊;李明武;陈岩;于强;张新玲 | 申请(专利权)人: | 烟台正海电子网板股份有限公司 |
| 主分类号: | G06F3/044 | 分类号: | G06F3/044 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 264006 山东省*** | 国省代码: | 山东;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 电容 式触控 面板 及其 制造 方法 | ||
1.一种电容式触控面板及其制造方法,其特征在于使用的是柔性透明基材,如光学级聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等。
2.一种电容式触控面板及其制造方法,其特征在于柔性透明基材的双面分别布设透明导电层。
3.一种电容式触控面板及其制造方法,其特征在于柔性透明基材双面布设透明导电层后,还需要在透明导电层表面分别布设不透明导电层;该不透明导电层可以采用电阻值低的金、银、铜、铝、钼等金属;可以通过电镀、真空溅射等方式布设。
4.一种电容式触控面板及其制造方法,其特征在于电路图案是用双面同时曝光蚀刻的方法实现的。
5.如权利要求4所述制法,其特征还在于双面同时附加掩模版,两张掩模版精密对位后,双面同时曝光,把掩膜版上的图案转移到光阻上面。
6.如权利要求4所述触控电路双面图形结构,其特征还在于采用了双面精密对位曝光系统。
7.一种电容式触控面板及其制造方法,其特征在于蚀刻是分多步进行的:
步骤一:蚀刻掉非导电区域的不透明金属;
步骤二:蚀刻掉裸露的透明导电层;
步骤三:边框金属走线区域布设抗蚀刻层;
步骤四:蚀刻掉网格区的不透明金属,裸露出位于下面的透明导电图案。
8.如权利要求7所述触控电路双面结构,其特征还在于蚀刻制程是双面同时进行的。
9.如权利要求7所述触控电路双面结构,其特征还在于步骤四所用的蚀刻液只会蚀刻不透明金属,而不会破坏透明导电层。
10.一种电容式触控面板及其制造方法,其特征在于生产加工过程可以以卷到卷的方式进行。
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