[发明专利]薄膜太阳能电池的制备方法无效
申请号: | 201110062923.6 | 申请日: | 2011-03-11 |
公开(公告)号: | CN102163652A | 公开(公告)日: | 2011-08-24 |
发明(设计)人: | 林信宏;章丰帆;谢季桦;林信志;李宗龙 | 申请(专利权)人: | 太阳海科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 郑小军;冯志云 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 薄膜 太阳能电池 制备 方法 | ||
1.一种薄膜太阳能电池的制备方法,包含下列步骤:
形成一阳极层于一基板上;
形成一铜层于该阳极层上;以及
共沉积铜、铟、镓和硒于该铜层上,以形成一铜铟镓硒光吸收层。
2.根据权利要求1所述的薄膜太阳能电池的制备方法,其特征在于,该铜层的铜量为在共沉积铜、铟、镓和硒的步骤中的铜量的一半以下。
3.根据权利要求1所述的薄膜太阳能电池的制备方法,其特征在于,该铜层的厚度介于1000埃至2500埃。
4.根据权利要求1所述的薄膜太阳能电池的制备方法,其特征在于,该铜铟镓硒光吸收层的厚度介于1至2.5微米。
5.根据权利要求1所述的薄膜太阳能电池的制备方法,其特征在于,形成一铜层于该阳极层上的步骤包含蒸镀或溅镀该铜层于该阳极层上。
6.根据权利要求1所述的薄膜太阳能电池的制备方法,其特征在于,该阳极层包含钼。
7.根据权利要求1所述的薄膜太阳能电池的制备方法,其特征在于,还包含下列步骤:
沉积一缓冲层于该铜铟镓硒光吸收层上;
形成一绝缘层于该缓冲层上;以及
形成一导电层于该绝缘层。
8.根据权利要求7所述的薄膜太阳能电池的制备方法,其特征在于,该缓冲层包含硫化镉、硫化锌或硫化铟。
9.根据权利要求7所述的薄膜太阳能电池的制备方法,其特征在于,该绝缘层包含氧化锌。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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