[发明专利]光干涉测量装置

权利要求书

1.一种光干涉测量装置，其包括：

光源，其输出宽带光；

物镜部，其将从所述光源输出的所述宽带光的光路分成包括参照镜的参照光路和包括测量对象的测量光路，并且所述物镜部输出被所述参照镜反射的参照光和被所述测量对象反射的对象光的合成波；

光路长度改变部，其改变所述参照光路的光路长度或者改变所述测量光路的光路长度；以及

摄像部，其形成从所述物镜部输出的所述合成波的干涉图像数据；

其中，所述物镜部包括：

相位差控制构件，其控制所述参照光与所述对象光之间的相位差，以在所述参照光路和所述测量光路之间的光路差为零的位置处产生相消干涉条纹，及

最小辉度位置检测部，其基于由所述摄像部形成的所述干涉图像数据而检测所述相消干涉条纹的最小辉度位置。

2.根据权利要求1所述的光干涉测量装置，其特征在于，所述相位差控制构件是包括介电多层膜的薄膜。

3.根据权利要求2所述的光干涉测量装置，其特征在于，金属膜被层叠在所述介电多层膜上。

4.根据权利要求1所述的光干涉测量装置，其特征在于，

所述物镜部包括将从所述光源输出的所述宽带光的所述光路分成所述参照光路和所述测量光路的分束器；

所述相位差控制构件被附设到所述分束器；

通过所述测量光路的光两次透射过所述相位差控制构件，透射光的相位由此被反转180°。

5.根据权利要求1所述的光干涉测量装置，其特征在于，在所述物镜部中，

所述相位差控制构件被布置在所述参照镜的反射面侧；且

所述参照光透射过所述相位差控制构件的次数比所述对象光透射过所述相位差控制构件的次数多两次，所述光的相位由此被反转180°。